核心優(yōu)勢
1.磁控濺射、快速沉積。
2.角度全覆蓋涂層
樣品臺直徑:70 mm
傾斜角度:+35°
提升距離:0-20mm
3.方便的觸摸屏操作
4.腔室可用作樣品真空儲液槽
用戶界面
用戶界面簡潔,參數(shù)設(shè)置便利
工作時顯示設(shè)備關(guān)鍵參數(shù),全過程可控
模塊化設(shè)計,不同功能間切換快捷
維護簡單,無需特殊保養(yǎng)
性能參數(shù)
報價:面議
已咨詢63次掃描電子顯微鏡及相關(guān)設(shè)備
報價:面議
已咨詢58次掃描電子顯微鏡及相關(guān)設(shè)備
報價:面議
已咨詢72次掃描電子顯微鏡及相關(guān)設(shè)備
報價:面議
已咨詢2855次報價:面議
已咨詢830次英國HHV 科研用真空鍍膜系統(tǒng)
報價:¥500000
已咨詢379次樣品制備
報價:面議
已咨詢5784次金相制樣設(shè)備
報價:¥500000
已咨詢252次樣品制備
報價:面議
已咨詢1868次磁控濺射鍍膜
報價:¥400000
已咨詢32次樣品制備
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 , 是光刻工藝的延伸應(yīng)用 。 電子束曝光系統(tǒng)是實現(xiàn)電子束曝光 技術(shù)的硬件平臺,系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數(shù)。
我們的SERS基底采用創(chuàng)新技術(shù)制造,使您可以進行SERS快速和重復測量,從而對SERS活性的樣品進行定性分析和定量分析。
GGB行業(yè),一系列校準基板允許用戶校準多種GGB 行業(yè)的Picoprobe?探頭尖端。測量系統(tǒng)校準的基本原理是提供測量系統(tǒng)可以連接到的精確已知標準。