功率源采用大功率超聲波換能器,整機由超聲波換能器、變幅桿、霧化頭、專用超聲波發生器組成。換能器驅動霧化頭作高頻振動,對水或其他液體施加超聲波作用力,將流動的液體打散成細微顆粒、噴向空中,從而達到噴霧(霧化)的目的。該設備以其獨特的輕柔噴霧特征,大大減少了反噴,從而降低了成本以及對周圍空氣的污染,同時這種新技術也拓展了更多的應用領域,例如在要求噴灑低流量下就十分理想。此外對于基片噴涂、霧化加濕、噴霧干燥、網層噴涂及其他工業和研究開發應用,該噴霧器設備也會產生比其他技術更好的效果。
1、對于精確噴涂應用,噴射形狀十分容易操控成形。
2、可減少反噴造成的浪費及空氣污染,節能環保。
3、使用高性能的鈦合金及不銹鋼制造。
4、無壓力,無噪音,無噴嘴磨損和堵塞問題。
5、能耗低、霧化效率高。
6、對介質無限制,甚至污水、化工液體、油料粘液也能霧化。
7、霧化量大小可隨意調節,適于應用在工業領域。通過組合,霧化量可以滿足用戶的任何要求。
? 高均勻性
? 節材環保
? 高可控性
? 高效節能
? 廣泛應用
? 薄膜光伏電池
? 薄膜太陽能涂料
? 鈣鈦礦太陽能電池
? 太陽能電池
? 石墨烯涂層
? 硅光伏電池
? 燃料電池
報價:¥1000000
已咨詢678次薄膜制備
報價:面議
已咨詢1792次超聲霧化噴霧熱解
報價:¥100000
已咨詢1886次薄膜制備
報價:面議
已咨詢773次超聲波涂裝
報價:面議
已咨詢767次超聲波涂裝
報價:面議
已咨詢1932次超聲霧化噴霧熱解
報價:¥200000
已咨詢9次超聲波噴涂設備
報價:面議
已咨詢127次超聲霧化噴霧熱解
PS-200單靶磁控濺射鍍膜機主要由真空室、磁控靶、旋轉基片架、真空系統、機架、電器控制等幾大部分組成。可用來制備導電膜、金屬膜、介質膜、半導體膜、絕緣膜、多層膜等。設備結構緊湊,占地面積小適合高校實驗室及科研院所。
CCU-010 鍍膜機提供兩種款型。CCU- 010 LV低真空鍍膜機,CCU- 010 HV 高真空鍍膜機。采用模塊化概念,便于以后把低真空鍍膜機轉變為高真空鍍膜機。
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