陶瓷研磨盤(pán)采用高級(jí)陶瓷材料制作而成,適合于晶體、陶瓷、玻璃等脆性材料的研磨。
主要特點(diǎn)
耐磨性好,平面度高,容易清洗,不會(huì)將磨料嵌入盤(pán)內(nèi)。
技術(shù)參數(shù)
Φ203mm、Φ300mm
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鑲嵌壓力、溫度、時(shí)間可任意調(diào)整,隨材質(zhì)的不同變化 進(jìn)料-鑲嵌-加熱-冷卻-出樣全自動(dòng)化運(yùn)行 出樣定位精準(zhǔn),可搭配本公司全自動(dòng)磨拋系統(tǒng)或其他自動(dòng)化設(shè)備聯(lián)動(dòng)
包含定位載料盤(pán)、研磨拋光單元、清洗單元以及供料單元,可以實(shí)現(xiàn)從取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動(dòng)流程,通過(guò)觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數(shù),并能進(jìn)行參數(shù)設(shè)定存檔,并可一鍵啟動(dòng)
UNIPOL-1500M-16自動(dòng)壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、巖樣、礦樣、復(fù)合材料、有機(jī)高分子材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋
UNIPOL-1502AT自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)適用于各種材料的研磨與拋光,本機(jī)設(shè)置了?381mm的研磨拋光盤(pán)和三個(gè)加工工位,可用于研磨拋光≤?110mm的平面。UNIPOL-1502自動(dòng)精密研磨拋光機(jī)若
至多可選配四個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。 可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。 體積小,操作簡(jiǎn)便。 整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔
適用于難熔金屬(鎢、鉬、鋯、鉿、鉭、鈮、鈦、錸、鈹)等合金的熔煉。
VTC-1HD-Z F2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設(shè)備,含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜
UNIPOL-1210S自動(dòng)壓力研磨拋光系統(tǒng)主要用于材料研究領(lǐng)域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,也可用于工廠的小規(guī)模生產(chǎn)。該機(jī)具有加工精度高,性能穩(wěn)定可靠,操作簡(jiǎn)單,適用