高溫退火爐

      目前國內(nèi)高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，也無法實現(xiàn)溫度的高精度測量，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象，華測儀器通過多年研究開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布。可實現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無氣氛污染。可在高真空，高出純度氣體中加熱。設(shè)備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。

它提高了加熱試驗?zāi)芰ΑＭ娮锠t和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系統(tǒng)安全可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)全新的溫度控制操作!

目前電網(wǎng)中大量使用變頻器等高頻、高功率設(shè)備，將對電網(wǎng)造成諧波干擾。從而在高頻、弱信號測量過程中影響弱信號的采集，華測儀器公司推出的抗干擾模塊以及采用zui 新特殊參數(shù)分析技術(shù),實現(xiàn)了高達(dá)120MHz的高頻測量,從而滿足了很多半導(dǎo)體,功能材料和納米器件的測試需求.

設(shè)備優(yōu)勢

阻抗分析儀測量&高溫爐基本參數(shù)：

更強(qiáng)大的操作軟件：

高速升溫時，配套的快速反應(yīng)的紅外線反射爐控制裝置，本控制裝 營采用可編程溫度控制器。高性能緊湊設(shè)計，響應(yīng)速度愉。為了高速加熱設(shè)備采用PID溫度控制， 同時采用移相觸發(fā)技術(shù)保證試價溫度。

●據(jù)設(shè)備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)， 您也可以簡單輸入濕度程序設(shè)定和外部信號。另外還可以在電腦上星示熱中的溫度數(shù)據(jù)。

●自適應(yīng)熱電偶包括J、I、S、K、J、T、E、L、N、R、S、B、以及L、U、W型。

●zui 大可設(shè)定32個程序，256個步理的程序。

●30A.60A. 120A內(nèi)置 TSCR電路所以范圍很廣。

●250mmWx 380mmDx157mmH小巧尺寸D設(shè)備配置。

不一樣的加溫方式及更多的應(yīng)用場景：