Nanoscribe Photonic Professional GT2雙光子無掩模光刻系統
Nanoscribe 多級衍射光學元件
Nanoscribe 創新折射微納光學
Nanoscribe 微機械和MEMS
Nanoscribe 具備3D設計自由度的高級微納光學
產品介紹：
創新折射微納光學
高精度的增材制造可打印出尖 端的折射微納光學元件。得益于雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。
增材制造應用于高精度微納光學制造
單個微納光學元件，具備高達100%高填充系數的陣列和幾乎任意形狀，包括球形，非球形甚至是自由曲面光學元件等，都可以通過Nanoscribe公司的快速無掩模工藝直接打印制作，并同時可以達到光學質量表面的要求。
Nanoscribe的全新Quantum X無掩模光刻系統適用于2.5D折射微納光學元件制作，可以實現幾乎任何形狀的創新設計，并具備出色的形狀精度。得益于Nanoscribe的雙光子灰度光刻技術（2GL?），可以根據透鏡輪廓調節激光功率，從而單層打印微納光學器件，更大的透鏡制作也可以通過多層打印實現。這種方法大大縮短了打印時間。
2GL應用于尖 端微納光學制作
折射微光學領域應用
想探索折射微光學領域項目的更多可能性嗎？歡迎了解我們3D微納加工解決方案的不同應用，以及有關折射微光學領域的最 新10篇科學出版物。
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高分辨率專利A2PL技術3D打印應用于納米級精度對準 再光纖和芯片上進行3D打印 納米級精度3D對準技術 光學級三維打印
GP-Silica 是全球首款石英玻璃微納結構3D打印光刻膠
由Nanoscribe研發的IP系列光刻膠是用于超高分辨率微納加工的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有超高形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。
雙光子聚合技術所具有的高設計自由度，可以在各種預先構圖的基板上實現波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統，可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。
雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。
高精度的增材制造可打印出尖端的折射微納光學元件。得益于雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點，您可以進行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創新設計。
借助我們雙光子聚合技術獨有的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。
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營業執照已審核
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