電子束系統(tǒng)

Description:

●專為金屬、電介質(zhì)、氧化物、半導體和合金的沉積而設計，用于研發(fā)實驗室和試生產(chǎn)應用

●可配置離子束清洗和離子輔助沉積(IAD)的離子源

●可實現(xiàn)<+/-3% 的均勻沉積

●系統(tǒng)可配備不同的真空泵，用于高壓和超高壓

●多功能、操作簡便、長期可靠，適用于單層和多層薄膜蒸發(fā)