盒式裝載紫外線臭氧清洗設備 UV-300HC雙盒式生產系統
概要
UV-300HC是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機,用于生產。這個行業領先的系統有2個裝載盒,可以達到200-300nm/min的高灰化率。該系統利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的獨特組合,溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導體(GaN、SiC、GaAs和InP)、藍寶石、陶瓷等各種基材上的有機物。
主要特點和優點
最 大加工尺寸為?240 mm (?3" x 5, ?4" x 3, ?8" x 1)
200 - 300 nm/min的高灰化率。
加熱階段加快了清洗速度,實現了寬廣的工藝溫度范圍。
通過調整平臺和石英擴散板之間的間隙,可以提高基板的均勻性。
緊湊,使用最小的潔凈室空間
簡單,在大氣壓下操作--不需要真空系統。
柔軟、完全干燥的工藝不會對基材造成電損傷。
內置臭氧催化劑裝置,可將廢氣中的臭氧濃度降低到安全水平。
應用
塑料包裝和引線框架的表面清潔
復合半導體(GaN、SiC、GaAs和InP)的表面清洗
表面改性(潤濕性和附著力的改善
表面氧化(薄氧化層沉積)
光阻劑的灰化、剝離和除塵
清除有機污染物
紫外線固化
報價:面議
已咨詢52次紫外線UV光清洗/等離子清洗
報價:面議
已咨詢48次紫外線UV清洗光源設備
報價:面議
已咨詢68次紫外線UV清洗光源設備
報價:面議
已咨詢53次清洗
報價:¥28400
已咨詢22次光照紫外線老化試驗箱
報價:面議
已咨詢318次透射電子顯微鏡
報價:面議
已咨詢809次UV清洗燈/UV固化燈/UV殺菌燈具
報價:面議
已咨詢983次紫外線UV清洗光源設備
ASML 光刻機 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 緊湊式濺射系統 Compact Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達6英寸,基板架加熱溫度最高可達500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%, 最多可配備5個6英寸磁控濺射源(可選配3或4個),支持射頻、直流或脈沖直流電源,最多可支持3條氣體管路,支持順序沉積和共沉積。
Syskey 緊湊式熱蒸發系統 Compact Thermal ,靈活的基板尺寸,最大可達6英寸, 基板架加熱溫度最高可達500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%,可選配電子束或熱舟蒸發源(最多3個),速率控制沉積,可沉積多層薄膜,選用特定目標材料
高真空濺射系統 HV Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達12英寸或200×200毫米, 基板架加熱溫度最高可達800℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%
超高真空磁控濺射鍍膜機 UHV Sputter,? 基板支架加熱至 800 °C ? 優異的薄膜均勻性小于 ±3% ? 磁控濺射源(數量最多 8 個),可選強磁版本
Syskey 高真空熱蒸發鍍膜機HV Thermal 高真空熱蒸發系統可提供的真空環境 用于常見薄膜沉積,包括金屬、有機物、鈣鈦礦和化合物。全自動系統可滿足各種應用要求,包括OLED、OPV、OPD等。
Syskey 超高真空熱蒸發鍍膜機UHV Thermal, ? 靈活的基板尺寸可達 8 英寸? 基板支架加熱至 800 °C? 優異的薄膜均勻性小于 ±3%? 船和電池源(數量最多 6 個)? 可以共蒸發和摻雜。? 用選定的目標材料沉積多層薄膜? 可與其他沉積系統集成
Syskey 高真空電子束鍍膜系統 HV E-beam, 靈活的基板尺寸可達 12 英寸,? 優異的薄膜均勻性小于 ±3%