儀器簡介:
DM 2500P研究級全手動式專業偏光顯微鏡,適用于巖片、玻璃、陶瓷、塑料、高分子材料等樣品的偏光特性高級觀察分析 模塊化設計。
可實現透射配置,和透反射配置 。
整體光路支持25mm視野直徑 5孔位手動物鏡轉盤,配接25mm直徑偏光專用物鏡 反射光可實現明場、偏光、干涉,透射光可實現明場、暗場、偏光、干涉、錐光觀察。
機身內置12V100W的透、反射照明電源,可提供手動光強變化的照明方式,透反射光路都能接100W鹵素燈箱照明
機身及其它光學部件可提供多種安放偏光專用鏡片位置,達到整體和諧
可配接攝像頭,數碼相機等圖像采集設備,實現圖像存儲,配合分析軟件做圖像分析
可配接冷熱臺、陰較為發光儀、光度計、熒光配件等擴展配件
報價:面議
已咨詢66次顯微鏡
報價:面議
已咨詢45次顯微鏡
報價:面議
已咨詢46次顯微鏡
報價:面議
已咨詢59次顯微鏡
報價:面議
已咨詢69次顯微鏡
報價:面議
已咨詢47次顯微鏡
報價:面議
已咨詢48次顯微鏡
報價:面議
已咨詢60次顯微鏡
報價:面議
已咨詢51次顯微鏡
報價:面議
已咨詢374次偏光顯微鏡
報價:¥13700
已咨詢3660次雙目偏光顯微鏡
報價:面議
已咨詢971次顯微熔點儀
報價:面議
已咨詢1038次顯微熔點儀
報價:面議
已咨詢67次顯微鏡
報價:面議
已咨詢1251次Leica偏光顯微鏡
報價:面議
已咨詢869次偏光顯微鏡
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 , 是光刻工藝的延伸應用 。 電子束曝光系統是實現電子束曝光 技術的硬件平臺,系統的性能決定了曝光工藝關鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數。
我們的SERS基底采用創新技術制造,使您可以進行SERS快速和重復測量,從而對SERS活性的樣品進行定性分析和定量分析。
GGB行業,一系列校準基板允許用戶校準多種GGB 行業的Picoprobe?探頭尖端。測量系統校準的基本原理是提供測量系統可以連接到的精確已知標準。