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高溫離子氮化爐

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產品特點

PVA高溫離子氮化爐可在700到900℃下用于鈦合金材料的脈沖等離子滲氮處理,也可用于常規鋼材料部件的表面脈沖等離子體 滲氮 /脈沖等離子體氮碳共滲,可用于改善工件表面耐磨性和耐腐蝕性。

詳細介紹

   脈沖等離子PulsPlasma?系統包括真空爐室,輔助加熱系統,保溫系統,溫度測量系統,鐘罩提升系統,工藝氣體循環系統,冷卻系統,工藝控制系統以及離子發生器系統。這其中的離子發生器系統是普發拓普公司的設計,可以完全避免打弧現象的發生而且節能效果明顯。爐體可以是鐘罩式設計,也可以是井式爐或臥式設計。根據設備的大小,加熱控制區至少配有三組獨立控制升溫和降溫的加熱器,通過這些獨立控制的加熱器獲得較好的均溫性。


工藝特點:

  • 通過熱壁技術實現良好的均溫性

  • 工藝氣體消耗少,沒有污染氣體

  • 靈活的滲氮溫度,溫度范圍 300 ℃ - 800 ℃

  • 白亮層可控

  • 可處理不銹鋼

  • 可處理燒結鋼

  • 可以在同一爐工藝集成脈沖離子氮化-氧化工藝

 

 設備特點:

  • 不產生打弧,工件表面無破壞

  • 加熱和控制系統,至少3區獨立的加熱和冷卻區域

  • 控制區溫度均勻分布

  • PulsPlasma?電源,電壓和電流近乎方波,幾微妙內獲得

  • 設定的全部脈沖電流,主動抑制打弧監測(開關時間< 0.1 μs)

  • 電源可升級至5年質保

  • 可在低溫下對工件表面進行等離子清洗

  • 設備布局緊湊,節省空間,所有部件集成在一個基礎框架內

  • 模塊化設計,提供單室型、交替型和雙室型設備

  • 特殊航天保溫材料,熱容量低,功率損耗低,節省重量



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