藍(lán)寶石精密切割裂片機(jī)
Sapphire Material Cutting Machine
產(chǎn)品簡介:
采用紅外皮秒激光器,保證完 美光束質(zhì)量,光斑細(xì),切割精度高。
IR picosecond laser is used to ensure perfect beam quality, fine spot and high cutting precision
產(chǎn)品亮點(diǎn):
可兼容振鏡和聚焦頭兩種裂片方式
Compatible with galvo and focusing head
兼容多款國內(nèi)外激光器型號(hào),可添加CCD定位等功能模塊
Compatible with a variety of domestic and overseas laser models
Optional customized CCD solution and other functional modules can be added
高速XY運(yùn)動(dòng)平臺(tái),大程度提升加工速度
High speed XY platform ensures stability under high speed processing
可切割有油墨與鍍膜藍(lán)寶石
Minimum ink offset when cutting Sapphire with deco
實(shí)現(xiàn)無錐度切割,邊緣光滑,崩邊少
Realize no taper cutting, smooth edge and minimized chipping
性能參數(shù):
應(yīng)用領(lǐng)域:
0.3mm-5mm厚度光玻璃,手機(jī)蓋板、手表蓋板、玻璃logo的切割倒角工藝
0.3mm-2mm sapphire, phone cover, watch cover, camera protective glass, optic protective cover filamentation and separation
報(bào)價(jià):面議
已咨詢575次JPT激光微加工設(shè)備
報(bào)價(jià):面議
已咨詢576次JPT激光微加工設(shè)備
報(bào)價(jià):¥200000
已咨詢213次樣品制備
報(bào)價(jià):面議
已咨詢1157次報(bào)價(jià):面議
已咨詢236次美國LatticeGear切割工具
報(bào)價(jià):面議
已咨詢244次美國LatticeGear切割工具
報(bào)價(jià):¥60000
已咨詢934次OEM金相切割機(jī)
報(bào)價(jià):面議
已咨詢19次消費(fèi)電子
ASML 光刻機(jī) Twinscan NXT:1980Di
Syskey 緊湊式濺射系統(tǒng) Compact Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達(dá)6英寸,基板架加熱溫度最高可達(dá)500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%, 最多可配備5個(gè)6英寸磁控濺射源(可選配3或4個(gè)),支持射頻、直流或脈沖直流電源,最多可支持3條氣體管路,支持順序沉積和共沉積。
Syskey 緊湊式熱蒸發(fā)系統(tǒng) Compact Thermal ,靈活的基板尺寸,最大可達(dá)6英寸, 基板架加熱溫度最高可達(dá)500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%,可選配電子束或熱舟蒸發(fā)源(最多3個(gè)),速率控制沉積,可沉積多層薄膜,選用特定目標(biāo)材料
高真空濺射系統(tǒng) HV Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達(dá)12英寸或200×200毫米, 基板架加熱溫度最高可達(dá)800℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%
超高真空磁控濺射鍍膜機(jī) UHV Sputter,? 基板支架加熱至 800 °C ? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3% ? 磁控濺射源(數(shù)量最多 8 個(gè)),可選強(qiáng)磁版本
Syskey 高真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)HV Thermal 高真空熱蒸發(fā)系統(tǒng)可提供的真空環(huán)境 用于常見薄膜沉積,包括金屬、有機(jī)物、鈣鈦礦和化合物。全自動(dòng)系統(tǒng)可滿足各種應(yīng)用要求,包括OLED、OPV、OPD等。
Syskey 超高真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)UHV Thermal, ? 靈活的基板尺寸可達(dá) 8 英寸? 基板支架加熱至 800 °C? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%? 船和電池源(數(shù)量最多 6 個(gè))? 可以共蒸發(fā)和摻雜。? 用選定的目標(biāo)材料沉積多層薄膜? 可與其他沉積系統(tǒng)集成
Syskey 高真空電子束鍍膜系統(tǒng) HV E-beam, 靈活的基板尺寸可達(dá) 12 英寸,? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%