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KMPR 1000 系列 -暫時/永 久性高深寬比負型光刻膠

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產品特點

KMPR用作DRIE蝕刻掩模實現高寬比的圖案。它還被廣泛用作MEMS與生物器件的電鍍模具。因KMPR減少了Cross-link密度,在Hard baked前,KMPR比較SU-8容易剝離。

詳細介紹

產品介紹:

KMPR 1000系列-暫時/永 久性高深寬比負型光刻膠

KMPR用作DRIE蝕刻掩模實現高寬比的圖案。它還被廣泛用作MEMS與生物器件的電鍍模具。因KMPR減少了Cross-link密度,在Hard baked前,KMPR比較SU-8容易剝離。KMPR負性光刻膠可在任何(PGMEA),或(TMAH)的顯影劑中得到顯影。

高寬比成像(>5:1)和垂直側壁

單一旋涂可達100微米

兼容標準水性顯影劑(TMAH)

優異的金屬粘附性

優異的電鍍鍍液穩定性





                                                                                                                                                                                                              


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