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那諾-馬斯特 Platens樣品臺

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產品特點

Platens樣品臺,又稱為基板或加熱板,是真空鍍膜設備中常用到關鍵部件。因此樣品臺可以整合到RIE刻蝕、ICP刻蝕、PECVD、ALD等刻蝕和沉積設備中,給晶圓等樣片進行均勻加熱和冷卻處理,為微納米薄膜工藝提供精確的溫度環境。

詳細介紹

NANO-MASTER(那諾-馬斯特)Platens樣品臺,使用技術,加熱均勻性極高。NANO-MASTER的樣平臺(或稱為基板、熱板)可以加入射頻偏壓、水冷卻、通過模塊控制700°C范圍的溫度。基板的高度可調節,基片可旋轉,真空腔體內沒有任何引線。任何地方不會出現短路或電弧,因為所有引線、電熱偶和冷卻水管道都保持在大氣壓下。NM樣品臺可以直接安裝到你的系統中,無論是RIE刻蝕、ICP刻蝕、ALE刻蝕,還是PECVD、ALD等沉積設備中,我們的基板都可以很方便的配套使用。


Platens樣品臺可應用的設備:

  • RIE反應離子刻蝕機

  • ICP感應耦合等離子刻蝕機

  • ALE原子層刻蝕設備

  • PECVD等離子增強化學氣相沉積設備

  • ALD原子層沉積設備

  • 其他設備


尺寸:

  • 1-12英寸

  • 可定制

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Platens不同型號對應溫度上限:

  • NM-LTP,低溫熱板,z高可加熱到300°C

  • NM-MTP,中溫熱板,z高可加熱到500°C

  • NM-HTP,高溫熱板,z高可加熱到700°C

Different models allow for different temperature limits:

  • NM-LTP - Low Temperature Platen heatable up to 300°C

  • NM-MTP - Mid Temperature Platen heatable up to 500°C

  • NM-HTP - High Temperature Platen heatable up to 700°C


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