| 產品型號 | U形真空腔體 |
| 腔體材質 | 優質304或316不銹鋼； |
| 主要用途 | 適用于自己組裝或改造高真空設備，如：真空蒸發鍍膜設備，冶金設備； |
| 技術指標 | 1.漏率:≤10-8Pa·L/S； |
| 規格尺寸 | U型真空室φ600X800（mm）； 1.上面接口可根據客戶要求加工； 2.水道也可以做雙層夾壁水冷； 3.真空室尺寸可根據客戶需求放大或縮小； 4.真空腔體單獨購買，可選其它功能型部件組裝成滿足您實驗要求的真空設備； |
| 表面處理 | 內外表面：電化學拋光處理； 也可以選擇噴砂處理或噴漆處理 |
鑲嵌壓力、溫度、時間可任意調整，隨材質的不同變化 進料-鑲嵌-加熱-冷卻-出樣全自動化運行 出樣定位精準，可搭配本公司全自動磨拋系統或其他自動化設備聯動
包含定位載料盤、研磨拋光單元、清洗單元以及供料單元，可以實現從取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動流程，通過觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數，并能進行參數設定存檔，并可一鍵啟動
UNIPOL-1500M-16自動壓力研磨拋光機主要用于材料研究領域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、巖樣、礦樣、復合材料、有機高分子材料等材料樣品的自動研磨拋
UNIPOL-1502AT自動精密研磨拋光機適用于各種材料的研磨與拋光，本機設置了?381mm的研磨拋光盤和三個加工工位，可用于研磨拋光≤?110mm的平面。UNIPOL-1502自動精密研磨拋光機若
至多可選配四個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據客戶需要任意調換）。 可制備多種薄膜，應用廣泛。 體積小，操作簡便。 整機模塊化設計，真空腔
適用于難熔金屬（鎢、鉬、鋯、鉿、鉭、鈮、鈦、錸、鈹）等合金的熔煉。
VTC-1HD-Z F2高真空磁控濺射蒸發鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設備，含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜
UNIPOL-1210S自動壓力研磨拋光系統主要用于材料研究領域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動研磨拋光，也可用于工廠的小規模生產。該機具有加工精度高，性能穩定可靠，操作簡單，適用
營業執照已審核
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