本公司所售靶頭適用靶材種類較廣，如金屬/絕緣靶或磁性/非磁性靶材。配裝有環形永磁體在靶頭上，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。可與DC或RF電源配合使用。
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| 直、折靶 | 方靶 | 自轉轉靶 |
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| 公、自轉轉靶 | 多弧濺射弧源 | |
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已咨詢98次真空系統相關配件
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已咨詢172次真空泵組
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已咨詢2317次比表面積及微孔
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已咨詢295次磁控濺射鍍膜
鑲嵌壓力、溫度、時間可任意調整，隨材質的不同變化 進料-鑲嵌-加熱-冷卻-出樣全自動化運行 出樣定位精準，可搭配本公司全自動磨拋系統或其他自動化設備聯動
包含定位載料盤、研磨拋光單元、清洗單元以及供料單元，可以實現從取樣-研磨-清洗-拋光-清洗一體的全程序化自動流程，通過觸摸屏操作可精確控制鑲嵌到磨拋、清洗的所有參數，并能進行參數設定存檔，并可一鍵啟動
UNIPOL-1500M-16自動壓力研磨拋光機主要用于材料研究領域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、巖樣、礦樣、復合材料、有機高分子材料等材料樣品的自動研磨拋
UNIPOL-1502AT自動精密研磨拋光機適用于各種材料的研磨與拋光，本機設置了?381mm的研磨拋光盤和三個加工工位，可用于研磨拋光≤?110mm的平面。UNIPOL-1502自動精密研磨拋光機若
至多可選配四個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據客戶需要任意調換）。 可制備多種薄膜，應用廣泛。 體積小，操作簡便。 整機模塊化設計，真空腔
適用于難熔金屬（鎢、鉬、鋯、鉿、鉭、鈮、鈦、錸、鈹）等合金的熔煉。
VTC-1HD-Z F2高真空磁控濺射蒸發鍍膜儀是多功能高真空鍍膜設備，含單靶磁控濺射儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜
UNIPOL-1210S自動壓力研磨拋光系統主要用于材料研究領域。適用于金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動研磨拋光，也可用于工廠的小規模生產。該機具有加工精度高，性能穩定可靠，操作簡單，適用
營業執照已審核
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滬公網安備 31011502008050號