XAD-200 是一款全元素上照式熒光光譜儀，既保留了專用測厚儀檢測微小樣品和凹槽的 膜厚性能，又可滿足RoHS有害元素檢測及成分分析，搭載全自動平臺實現XYZ軸編程位移， 實現無人值守多點測量，測量軟件置入先進的 EFP 算法及解譜技術，解決了諸多業界難題。

被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。

1) 搭載微聚焦加強型 X 射線發生器和先進的光路轉換聚焦系統，zui小測量面積達 0.03mm2

2) 擁有無損變焦檢測技術，手動變焦功能，可對各種異形凹槽件進行無損檢測，凹槽 深度范圍 0-90mm

3) 核心 EFP 算法，可對多層多元素，包括同種元素在不同層都可快、準、穩的做出數 據分析(釹鐵硼磁鐵上 Ni/Cu/Ni/FeNdB，精準檢測第一層 Ni 和第三層 Ni 的厚度)

4) 配備全自動可編程移動平臺，可實現無人值守，對成百上千個樣品進行全自動檢測 

5) 涂鍍層分析范圍:鋰 Li(3)- 鈾 U(92)
6) 成分分析范圍:鋁 Al(13)- 鈾 U(92)
7) RoHS、鹵素有害元素檢測 

8)人性化封閉軟件，自動判斷故障提示校正及操作步驟，避免誤操作

9) 標配四準直器自動切換

10) 配有微光聚集技術，zui近測距光斑擴散度小于 10%

工作條件 

工作溫度:15°C-30°C 電源:交流 220V±5V

相對濕度:<70%，無結露 功率:120W(不含計算機)