NBD-LJ10為掃描電鏡制作樣品而設計，具有結構簡單、使用方便等特點。它不需要很高的真空度就可以對掃描電鏡樣品進行離子濺射，因此它可以作為掃描電鏡樣品鍍膜的基本設備。
技術參數
? 玻璃處理室：Φ105*130mm；
? 試樣臺尺寸：Φ40mm可同時放6個樣品；
? 金靶尺寸：Φ58*0.12mm。
? 真空檢測：皮氏計；
? 真空保護：20Pa配有微量充氣閥調節工作真空；
? 工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣，配有氬氣進氣口和微量充氣調節 ；
? 濺射材質：鐵、鈷、鉺；
主要特點
? 采用2C靜音真空泵，全面降噪，提升實驗感受；
? 標配樣品室真空表和濺射電流表，實時顯示和監控儀器狀態；
? 新穎的設計鐘罩邊緣橡膠密封圈，可使得長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象。
? 配置濺射電流控制器和微型真空氣閥。結合自動控制電路，輕松控制真空室壓強、電離電流，并可任意選擇所需電離氣體，以獲得較佳鍍膜效果；
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LJ-16離子濺射儀是專用于掃描電鏡（SEM）的樣品噴金鍍膜系統，能夠極為有效的提高電鏡觀測效果。 操作簡便，性能優越，質量穩定，功能豐富
108離子濺射儀是一款結構緊湊的桌上型鍍膜系統，特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。 描述 108離子濺射儀是一款結構緊湊的桌上型鍍膜系統，特別適用于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。 主要特性 l 通過GX低壓直流磁控頭進行冷態精細的噴鍍過程，避免樣品表面受損。 l 操作容易快捷，控制的參數包括放氣以及氬氣換氣控制。 l 可用MTM-10高分辨膜厚控制儀（選件）精確測定所鍍膜的厚度。 l 數字化的噴鍍電流控制不受樣品室內氬氣壓力影響，可得到一致的鍍膜速率和ZJ的鍍膜效果。 可使用多種金屬靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶為標配），靶材更換快速方便。
整體含濺射主機和真空系統組成，濺射靶頭被設置成為一個二級濺射結構，通過均勻恒定的電場激發并電離氣體分子，形成穩定的輝光放電現象，被電離的離子和電子在這個電場下進行加速，從而使靶原子逃離靶材表面在樣品上面形成納米涂層 配套世界主流掃描電子顯微鏡廠家： 熱電（美國原荷蘭）FEI鎢絲陰極、場發射、飛納臺式等各類型電子顯微鏡，蔡司（德國）鎢絲陰極、場發射各系列的掃描電子顯微鏡，JEOL（日本電子）各類電鏡，日立（日本）各系列電鏡、臺式電鏡，TESCAN泰斯肯（捷克）各系列電鏡，還有如韓國“賽科”、COXEM庫賽姆、MIRERO等電鏡品牌及所有需要樣品前期處理，提高成像質量、增強導電性能等表面鍍膜處理的樣品制備工作。
全自動真空離子濺射儀噴金儀 直流濺射鍍膜導電處理優勢看得見：全自動微電腦控制，更智能； 專利技術，1 0秒更換靶材； 樣品臺內置高度調節功能，1秒即可調節； 內置1 0步操作向導，5分鐘即可熟練使用設備；
全自動真空離子濺射儀噴金儀 磁控濺射鍍膜導電處理優勢看得見：全自動微電腦控制，更智能； 專利技術，1 0秒更換靶材； 樣品臺內置高度調節功能，1秒即可調節； 內置1 0步操作向導，5分鐘即可熟練使用設備；
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