托托科技無掩模光刻機TTT-07-UV Litho-ACA Pro

步進(jìn)式光刻 更高的精度 激光主動對焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm

中芯熱成精密光刻機

本設(shè)備是我公司專門針對各大、專院校及科研單位研發(fā)使用的一種精密光刻機，主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

濕法工藝晶圓溫度測量系統(tǒng) 光刻機晶圓溫度測量系統(tǒng)

荷蘭SCIL全自動納米壓印光刻機

荷蘭SCIL科研級納米壓印光刻機

DaLI無掩膜納米光刻機

采用AOD激光操控技術(shù)，光斑定位精度優(yōu)于1nm，高精度套刻對準(zhǔn)，結(jié)構(gòu)邊緣超平滑，可輕松構(gòu)建1微米以下線寬結(jié)構(gòu)。 先進(jìn)的AOD激光操控技術(shù)，使得DaLI具有超高的激光定位精度（優(yōu)于1nm），超長的有效壽命，以及極高的穩(wěn)定性。DaLI主要適用于廣泛應(yīng)用于MEMS、材料科學(xué)、微流控、微光學(xué)器件及其它微納加工領(lǐng)域。

桌上型激光直寫光刻系統(tǒng)Dilase 250

主要優(yōu)勢 ? 小巧桌上型系統(tǒng) ? 掩膜板制作及激光直寫 ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20

URE-2000/35型紫外曝光光刻機

創(chuàng)新采用三柔性支點實現(xiàn)高精度自動調(diào)平；真空接觸自動曝光；樣片升降、調(diào)平、接觸、曝光、復(fù)位實現(xiàn)自動化控制；采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明；可連續(xù)設(shè)定分離間隙；采用雙目雙視場顯微鏡實現(xiàn)高對準(zhǔn)精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。