OptiCool超jing準全開放強磁場低溫光學研究平臺
OptiCool是Quantum Designzuixin推出的超jing準全開放強磁場低溫光學研究平臺,創新獨特的設計方案確保樣品可以處于光路的關鍵位置。系統擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體,可在超大空間為您提供高達±7T的磁場。多達7個側面窗口、1個頂部超大窗口方便光線由各個方向引入樣品腔,高度集成式的設計讓您的樣品在擁有低溫磁場的同時擺脫大型低溫系統的各種束縛。
超jing準全開放強磁場低溫光學研究平臺——OptiCool部分應用領域:
.MOKE/低溫MOKE
· 低溫拉曼
· 光致發光
· 紫外/紅外反射&吸收
· 傅里葉紅外光譜
· 低溫高壓
. NV色心、空位熒光
· 納米磁學
· 探測器
· 量子光學
· 自旋電子學
OptiCool是全干式系統,啟動和運行只需少量氦氣。全自動軟件控制實現一鍵變溫、一鍵變場;89mm直徑,84mm高度的超大樣品空間、頂部窗口90°光路張角讓測量更便捷;ZG控溫技術讓控溫更智能;新型磁體wan美結合了超大均勻區與超大數值孔徑。OptiCool讓低溫光學實驗無限可能。
超jing準全開放強磁場低溫光學研究平臺——OptiCool技術特點:
8個光學窗口:
·7個側面窗口 (NA > 0.11)
·1個頂部窗口 (NA > 0.7)
· 超大磁場:±7T
· 超低震動:<10nm 水平 峰-峰值<4nm 豎直 峰-峰值
· 超大空間:Φ89mm×84mm
· jing準控溫:1.7K~350K全溫區jing準控溫
· 新型磁體:雙錐型劈裂磁體,同時滿足超大磁場均勻 區、大數值孔徑的要求。
· 全干式系統:完全無液氦系統,脈管制冷機。
樣品腔體結構圖:
OptiCool樣品艙為用戶提供了自定義實驗裝置的工作臺。當您準備開始實驗時樣品艙可以方便的放入預接線的控溫樣品臺。測量完成后,您可以很方便的用準備好的樣品艙更換,進行下一個樣品的測量。OptiCool標配16根引線,并且已經由接口面板經過熱沉后引至樣品室,引線最多可增加至80根。
多功能樣品倉:
報價:面議
已咨詢831次綜合物性測量系統
報價:面議
已咨詢810次光學研究平臺
報價:面議
已咨詢1410次低溫物理
報價:面議
已咨詢1575次表面成像
報價:¥1
已咨詢878次軸向精密壓力表
報價:面議
已咨詢1590次表面成像
報價:面議
已咨詢1801次報價:面議
已咨詢1734次成像系統
ASML 光刻機 Twinscan NXT:1980Di
Syskey 緊湊式濺射系統 Compact Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達6英寸,基板架加熱溫度最高可達500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%, 最多可配備5個6英寸磁控濺射源(可選配3或4個),支持射頻、直流或脈沖直流電源,最多可支持3條氣體管路,支持順序沉積和共沉積。
Syskey 緊湊式熱蒸發系統 Compact Thermal ,靈活的基板尺寸,最大可達6英寸, 基板架加熱溫度最高可達500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%,可選配電子束或熱舟蒸發源(最多3個),速率控制沉積,可沉積多層薄膜,選用特定目標材料
高真空濺射系統 HV Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達12英寸或200×200毫米, 基板架加熱溫度最高可達800℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%
超高真空磁控濺射鍍膜機 UHV Sputter,? 基板支架加熱至 800 °C ? 優異的薄膜均勻性小于 ±3% ? 磁控濺射源(數量最多 8 個),可選強磁版本
Syskey 高真空熱蒸發鍍膜機HV Thermal 高真空熱蒸發系統可提供的真空環境 用于常見薄膜沉積,包括金屬、有機物、鈣鈦礦和化合物。全自動系統可滿足各種應用要求,包括OLED、OPV、OPD等。
Syskey 超高真空熱蒸發鍍膜機UHV Thermal, ? 靈活的基板尺寸可達 8 英寸? 基板支架加熱至 800 °C? 優異的薄膜均勻性小于 ±3%? 船和電池源(數量最多 6 個)? 可以共蒸發和摻雜。? 用選定的目標材料沉積多層薄膜? 可與其他沉積系統集成
Syskey 高真空電子束鍍膜系統 HV E-beam, 靈活的基板尺寸可達 12 英寸,? 優異的薄膜均勻性小于 ±3%