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儀器網>產品中心> 賽倫科技(北京)有限責任公司>工藝設備>美國MTI 測量硅片幾何參數(TTV/BOW/WARP/FLATNESS)

美國MTI 測量硅片幾何參數(TTV/BOW/WARP/FLATNESS)

面議 (具體成交價以合同協議為準)
美國MTI Instruments MTI 200SA/300/300SA 美洲 美國 2025-08-12 17:46:18
售全國 入駐:10年 等級:認證 營業執照已審核
同款產品:工藝設備(9件)
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產品詳情:

公司簡介:

美國MTI公司為半導體行業硅片幾何參數測量技術-電容探頭領域的佼佼者,與昔日的ADE齊名:為世界半導體業硅片幾何參數測量的標準測試設備;為納斯達克上市企業。

儀器簡介:

  主要參數:

1. Diameter: 150mm,200mm,300mm

2. Material: All semiconducting,and semi-insulating matrrials

3.Surfaces: As-Cut, Lapped, Etched,Polished,Patterned; Bare wafer/Quartz Base,Tape

4.Thickness: (ASTM F533),Range-+/-500um;Accracy-+/-0.25um; Repeatability-0.050um

5.TTV: (ASTM F533) Range-+/-500um; Accuracy-+/-0.050um; Repeatablity-0.050um

6.Bow:(ASTM F1390) Range-+/-250um; Accuracy-+/-2.0um; Repeatabiligy-0.75um

7.Flatness(Global)(ASTM F1530) Rang:8mm; Accuracy-+/-0.05um; Repeatbility-0.030um

8.Flatness(Site)(ASTM F1530) Rang:8mm; Accuracy: +/-0.05um; Repeatbiligy:0.030um


設備:
Proforma 300SA:半自動ZUI大12寸晶圓幾何參數測量儀;

Proforma 200SA:半自動型ZUI大8寸晶圓幾何參數測試儀;

測試數據/結果例子:




























23-Sep-2013






Wafer Summary Report



Page:1.00






































Operator:
Administrator



Lot Number:DK Wafer 200mm


Passed:4











Measurement Date:09/23/2013



Recipe:200mm,33,m,1notch,1-29-13 1 run

Failed:0











Measurement Time:17:51:58









Yield:100.0%
































































WaferWaferCenterAvgMinMax
3PTLSQ3PTLSQ






MaxMaxMaxMaxMaxMaxMaxMax% Sites
NumberIDThicknessThicknessThicknessThicknessTTVBowBowWarpWarpSoriGBIRGF3RGFLRGBIDGF3DGFLDSBIRSF3RSFLRSFQRSBIDSF3DSFLDSFQDPassed


(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)(uM)

Low Limit

























High Limit
























1.00shiny side729.56729.15728.83729.650.82-0.20-2.2118.3217.7417.720.820.760.750.820.630.480.290.300.300.130.210.200.200.07100.00
2.00dull side729.60729.14728.77729.730.963.855.5917.3417.3217.560.960.770.770.960.640.540.320.340.340.190.260.250.250.13100.00
3.00shiny side729.52729.10728.77729.610.840.33-1.5516.7517.3017.270.840.750.740.840.610.480.340.330.330.130.190.190.190.09100.00
4.00dull side729.54729.10728.76729.680.923.295.3417.2117.2917.530.920.790.760.920.610.530.290.270.280.180.270.260.260.10100.00




























Minimum729.52729.10728.76729.610.82-0.20-2.2116.7517.2917.270.820.750.740.820.610.480.290.270.280.130.190.190.190.07100.00

Maximum729.60729.15728.83729.730.963.855.5918.3217.7417.720.960.790.770.960.640.540.340.340.340.190.270.260.260.13100.00

Average729.56729.12728.78729.670.891.821.7917.4117.4117.520.890.770.760.890.620.510.310.310.310.160.230.230.230.10100.00

Std Dev0.0300.0220.0280.0440.0561.7723.6810.5730.1900.1620.0560.0150.0120.0560.0140.0250.0220.0290.0250.0250.0320.0290.0300.0210.000



























200SA/300SA操作界面,3D圖形貌顯示

技術參數:

1. Diameter: 150mm,200mm,300mm

2. Material: All semiconducting,and semi-insulating matrrials

3.Surfaces: As-Cut, Lapped, Etched,Polished,Patterned; Bare wafer/Quartz Base,Tape

4.Thickness: (ASTM F533),Range-+/-500um;Accracy-+/-0.25um; Repeatability-0.050um

5.TTV: (ASTM F533) Range-+/-500um; Accuracy-+/-0.050um; Repeatablity-0.050um

6.Bow:(ASTM F1390) Range-+/-250um; Accuracy-+/-2.0um; Repeatabiligy-0.75um

7.Flatness(Global)(ASTM F1530) Rang:8mm; Accuracy-+/-0.05um; Repeatbility-0.030um

8.Flatness(Site)(ASTM F1530) Rang:8mm; Accuracy: +/-0.05um; Repeatbiligy:0.030um

主要特點:

1. Diameter: 150mm,200mm,300mm

2. Material: All semiconducting,and semi-insulating matrrials

3.Surfaces: As-Cut, Lapped, Etched,Polished,Patterned; Bare wafer/Quartz Base,Tape

4.Thickness: (ASTM F533),Range-+/-500um;Accracy-+/-0.25um; Repeatability-0.050um

5.TTV: (ASTM F533) Range-+/-500um; Accuracy-+/-0.050um; Repeatablity-0.050um

6.Bow:(ASTM F1390) Range-+/-250um; Accuracy-+/-2.0um; Repeatabiligy-0.75um

7.Flatness(Global)(ASTM F1530) Rang:8mm; Accuracy-+/-0.05um; Repeatbility-0.030um

8.Flatness(Site)(ASTM F1530) Rang:8mm; Accuracy: +/-0.05um; Repeatbiligy:0.030um


技術資料

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