Ecopia科研用小型熱蒸發鍍膜機 - 極高性價比!
型號:AP-MTE1
產地:韓國原裝進口
儀器特點:
1/ 沉積材料:金屬;
2/ 膜厚均勻性:≤ ± 5 % (4英寸基底);
3/ 沉積方式:熱蒸發舟;
4/ 極限真空:5.0 x 10 -6 Torr;
技術規格:
1/ 最大樣品尺寸:4英寸;
2/ 基底旋轉:0~10rpm;
3/ 不銹鋼腔體,ID250 x H300 mm;
4/ 真空泵:機械泵,150L/Min;擴散泵,215L/Sec;
5/ 薄膜厚度監控:石英振蕩傳感器實時厚度控制;
6/ 厚度精度:0.5%;
7/ 熱蒸發源:4英寸熱蒸發舟,交流電源;
報價:$40000
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PS-200單靶磁控濺射鍍膜機主要由真空室、磁控靶、旋轉基片架、真空系統、機架、電器控制等幾大部分組成。可用來制備導電膜、金屬膜、介質膜、半導體膜、絕緣膜、多層膜等。設備結構緊湊,占地面積小適合高校實驗室及科研院所。
CCU-010 鍍膜機提供兩種款型。CCU- 010 LV低真空鍍膜機,CCU- 010 HV 高真空鍍膜機。采用模塊化概念,便于以后把低真空鍍膜機轉變為高真空鍍膜機。
性價比高,廠家直銷!