超高真空多腔室物理氣相沉積系統(tǒng)（PVD）

該系統(tǒng)由全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備商制造,配置多種沉積方式(預(yù)留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.

目前該系統(tǒng)的超高真空條件沉積模式（僅用機(jī)械泵+分子泵，極限真空可達(dá)5X10E-10Torr）。多種組合沉積模式，同一腔體實(shí)現(xiàn)多種功能沉積方式，沉積源模式有:
磁控濺射源
電子束蒸發(fā)源
熱蒸發(fā)源
該系統(tǒng)高度靈活，軟件操作方便，專業(yè)為研究機(jī)構(gòu)沉積超純度薄膜，是真正的超高真空沉積系統(tǒng)。 
技術(shù)參數(shù)： 
極限真空: <5x 10E-10 torr(經(jīng)過(guò)24小時(shí)烘烤冷卻后)；
鍍膜均勻度：<3%
樣品傳送: 便捷安放上置襯底
機(jī)柜: 占用空間小結(jié)構(gòu)；
樣品臺(tái)工作: 旋轉(zhuǎn), 加熱, 加載偏壓；
樣品操作: 預(yù)抽真空室；
樣品尺寸: 1”、 2”、 3”、 4” 、8”、12”等；
膜厚監(jiān)控: 石英晶體微天平, 橢偏儀；
烘烤: 內(nèi)置加熱或外置保溫加熱；
簡(jiǎn)單方便 的全自動(dòng)軟件操作：全自動(dòng)抽取真空并且程序自動(dòng)運(yùn)行。