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產(chǎn)品中心

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卓立漢光 顯微分光膜厚儀OPTM 系列

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產(chǎn)品特點(diǎn)

OPTM 系列顯微分光膜厚儀使用顯微光譜法在微小區(qū)域內(nèi)通過JD反射率進(jìn)行測量,可進(jìn)行高精度膜厚度/光學(xué)常數(shù)分析。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品概述

OPTM 系列顯微分光膜厚儀
頭部集成了薄膜厚度測量所需功能
通過顯微光譜法測量高精度jue對反射率(多層膜厚度,光學(xué)常數(shù))
1點(diǎn)1秒高速測量
顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)(紫外至近紅外)
區(qū)域傳感器的安全機(jī)制
易于分析向?qū)В鯇W(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析
獨(dú)立測量頭對應(yīng)各種inline客制化需求
支持各種自定義
 
OPTM 系列顯微分光膜厚儀選型表
 
OPTM-A1OPTM-A2OPTM-A3
波長范圍230 ~ 800 nm360 ~ 1100 nm900 ~ 1600 nm
膜厚范圍1nm ~ 35μm7nm ~ 49μm16nm ~ 92μm
測定時間1秒 / 1點(diǎn)
光斑大小10μm (*小約5μm)
感光元件CCDInGaAs
光源規(guī)格氘燈+鹵素?zé)? 鹵素?zé)?/td>
電源規(guī)格AC100V±10V 750VA(自動樣品臺規(guī)格)
尺寸555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自動樣品臺規(guī)格之主體部分)
重量約 55kg(自動樣品臺規(guī)格之主體部分)
 

測量項目:

jue對反射率測量
多層膜解析
光學(xué)常數(shù)分析(n:折射率,k:消光系數(shù))

 

測量示例:SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚測量

半導(dǎo)體晶體管通過控制電流的導(dǎo)通狀態(tài)來發(fā)送信號,但是為了防止電流泄漏和另一個晶體管的電流流過任意路徑,有必要隔離晶體管,埋入絕緣膜。 SiO 2(二氧化硅)或SiN(氮化硅)可用于絕緣膜。 SiO 2用作絕緣膜,而SiN用作具有比SiO 2更高的介電常數(shù)的絕緣膜,或是作為通過CMP去除SiO 2的不必要的阻擋層。之后SiN也被去除。 為了絕緣膜的性能和精確的工藝控制,有必要測量這些膜厚度。

 


解決方案

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