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2025-01-21 09:32:41SCD500高真空濺射鍍膜儀

SCD500高真空濺射鍍膜儀是一款高性能的鍍膜設(shè)備，采用高真空技術(shù)，能有效提高鍍膜質(zhì)量和均勻性。該儀器通過濺射原理，將鍍膜材料均勻沉積在基材表面，形成致密的鍍層。SCD500具備操作簡便、鍍膜速度快、鍍層質(zhì)量好等優(yōu)點，適用于多種材料的鍍膜需求，如金屬、合金、化合物等。在科研、工業(yè)制造等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，是提升產(chǎn)品性能和質(zhì)量的重要工具。如需更多信息，請訪問儀器網(wǎng)（m.oupniq.cn）。

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