- 2025-01-20 11:06:35ALD工藝
- ALD工藝，即原子層沉積，是一種將物質以單原子層形式逐層沉積在基底表面的方法。該技術基于表面自限制反應，能實現納米級精確控制，形成高質量、高保形性的薄膜。ALD廣泛應用于半導體、光學、催化等領域，用于制備功能薄膜、涂層及納米結構，具有工藝溫度低、重復性好、均勻性和一致性高等優點。
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