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2025-01-21 09:33:29眼科影像技術(shù): 眼科影像技術(shù)是一種應(yīng)用于眼科疾病診斷與治療的醫(yī)學(xué)影像技術(shù)。它利用超聲波、光學(xué)相干斷層成像（OCT）、激光掃描等多種成像原理，對眼部結(jié)構(gòu)進行高精度、無創(chuàng)或微創(chuàng)的成像。這些技術(shù)能夠幫助醫(yī)生直觀、清晰地觀察到眼球各層組織的細(xì)微結(jié)構(gòu)和病變情況，如視網(wǎng)膜、角膜、晶狀體等部位的異常，為眼科疾病的早期發(fā)現(xiàn)、病情評估及治療方案制定提供重要依據(jù)。眼科影像技術(shù)具有操作簡便、成像速度快、診斷準(zhǔn)確率高等優(yōu)點，在現(xiàn)代眼科醫(yī)療中發(fā)揮著不可或缺的作用。

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眼科影像技術(shù)資訊

高發(fā)眼部疾病有幾種？如何讓眼 “視界”更美好？

我國眼科影像技術(shù)如今已有70余年發(fā)展史，從眼底血管造影到眼部超聲檢查，從眼底照相機到MRI，尤其是OCT的出現(xiàn)…無不促進了眼科診療水平的整體提高。但全民眼健康仍任重道遠(yuǎn)。

凌云光技術(shù)股份有限公司 372
2022-05-18
眼科影像技術(shù) 視覺技術(shù)
眼底血管造影，給眼睛“照個相”！

眼底血管造影，是通過將能夠發(fā)出熒光的造影劑經(jīng)靜脈注入受檢者體內(nèi)，同時利用有特殊濾光片組合的眼底照相機進行眼底照相，動態(tài)觀察造影劑在眼底視網(wǎng)膜及脈絡(luò)膜循環(huán)全過程

 凌云光技術(shù)股份有限公司 1303
2022-05-04
眼科影像技術(shù) 眼底血管造影技術(shù)

眼科影像技術(shù)產(chǎn)品

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眼科影像技術(shù)問答

2022-09-01 15:11:11時間和測量技術(shù)不停步----- RGM手表公司影像測量系統(tǒng)案: RGM手表公司是由美國手表制造商羅蘭·墨菲創(chuàng)立的。他的職業(yè)生涯和對鐘表(計時設(shè)備的藝術(shù)或科學(xué))的興趣始于十幾歲時在一家鐘表公司做兼職工作時。后來，他進入了鮑曼制表技術(shù)學(xué)校，1986年他被WOSTEP(瑞士制表師培訓(xùn)和教育計劃)錄取。完成WOSTEP后，他在漢密爾頓手表公司的產(chǎn)品開發(fā)工作，直到他創(chuàng)建了RGM手表。RGM手表銷售是在個人一對一的基礎(chǔ)上進行的。參觀該公司的客戶和潛在客戶經(jīng)常會受到羅蘭?墨菲本人的歡迎。他在談到客戶經(jīng)常要求的定制設(shè)計功能時，分享了自己對經(jīng)典手表設(shè)計、創(chuàng)新和工藝的熱情。RGM擁有一支11人的團隊，每年生產(chǎn)“幾百塊”手表，根據(jù)設(shè)計和材料的不同，手表的價格從3500美元到9.5萬美元不等。進入RGM工廠，您會立即被多個經(jīng)典的鐘表匠長椅和一些古董玫瑰發(fā)動機車床包圍。這些百年的車床可以生產(chǎn)復(fù)雜和華麗的金屬圖案使用切削雕刻技術(shù)。RGM表的這種水平的裝飾細(xì)節(jié)對客戶是非常誘惑的。在開始時，由于缺乏合適的金屬加工機械來生產(chǎn)非常小的零件，也沒有精密的非接觸測量手段，RGM產(chǎn)品的開發(fā)往往非常緩慢。瑞士的公司有這些設(shè)備，但對與一家沒有經(jīng)驗的初創(chuàng)公司合作沒有特別的興趣——尤其是這樣一家來自美國的公司。憑借進取的決心，在當(dāng)?shù)匾患覚C械修理店和一批二手金屬加工機械的幫助下，墨菲于2007年推出了Caliber 801機械運動系統(tǒng)。“在我們能夠依賴可靠準(zhǔn)確的零部件之前，我們會制造小于名義尺寸孔的零件，然后制表師會修正夾具鏜床上的孔……這是一個非常耗時的過程……” 在一臺老式的光學(xué)比較儀上對Caliber 801的小零件進行檢查和測量。這樣的檢查需要花費相當(dāng)多的時間來定位和測量，并且不是非常自動化，但對于處理最初幾個低等級的系列手表零組件已經(jīng)足夠了。今天，有七個版本的Caliber 801，需要對一系列復(fù)雜的零組件進行測量。這時，使組成零件始終精確就變得至關(guān)重要了。這意味著制表師在組裝過程中通過使小孔變大來單獨制造太耗費時間。墨菲解釋說。那么他們是如何解決生產(chǎn)和檢測的問題的呢？ 2016年6月，RGM購買了QVI?StarLite150影像測量系統(tǒng)，用于完成之前由光學(xué)投影儀測量的尺寸和檢查任務(wù)?！癝tarLite 150很快就展示了優(yōu)勢所在，這個系統(tǒng)可以在不需要操作人員干預(yù)的情況下持續(xù)測量小而復(fù)雜的手表部件，”微機械設(shè)計總監(jiān)Benoit Barbe說。近年來，生產(chǎn)和機型需求增加，StarLite 150通過其與公司的3D CAD系統(tǒng)和數(shù)控銑床的兼容性，已經(jīng)成為開發(fā)過程中不可或缺的檢測手段的一部分。一旦CAD模型完成，它可以下載到影像測量系統(tǒng)，在幾秒鐘內(nèi)完成測量?！拔覀儗y量結(jié)果的準(zhǔn)確性有很高的信心，而在使用光學(xué)比較儀時是存有疑慮的，”Barbe評論道。 “我們對StarLite 150測量系統(tǒng)了解得越多，我們的工作效率就越高。”StarLite150特別受到RGM制造團隊贊賞的一個特點是它的VectorLightTMLED可編程環(huán)形燈。Barbe說:“高亮度的光源使得在兩個盲孔之間檢查尺寸變得非常快速和簡單“?！倍ㄖ剖直砉δ艿男枨笤絹碓酱?，需要獨特的，復(fù)雜的設(shè)計與數(shù)控機床生產(chǎn)運行的數(shù)量越多?！拔覀儸F(xiàn)在定期測量和檢查定制的微型機蝕刻，用小到0.02毫米的立銑刀。用了StarLite以后，測量變得從來沒有這么簡單，也沒有這么準(zhǔn)確。

2021-07-24 18:14:35眼科相關(guān)名詞解釋: （一）視力：即視覺分辨力，是眼睛所能夠分辨的外界兩個物點間最小距離的能力。視力是隨著屈光系統(tǒng)和視網(wǎng)膜發(fā)育逐漸發(fā)育成熟的，0～6歲是兒童視力發(fā)育的關(guān)鍵期，新生兒出生僅有光感，1歲視力一般可達0.2，2歲視力一般可達0.4以上，3歲視力一般可達0.5以上，4歲視力一般可達0.6以上，5歲及以上視力一般可達0.8以上。（二）裸眼視力：又稱未矯正視力，指未經(jīng)任何光學(xué)鏡片矯正所測得的視力，包括裸眼遠(yuǎn)視力和裸眼近視力。（三）正視化過程：兒童眼球和視力是逐步發(fā)育成熟的，新生兒出生時，眼睛發(fā)育未成熟，處于遠(yuǎn)視狀態(tài)，隨著生長發(fā)育，眼球逐漸增長，眼遠(yuǎn)視屈光度數(shù)逐漸趨向正視，稱之為“正視化過程”。3歲前生理屈光度為+3.00D，4～5歲生理屈光度為+1.50D～+2.00D，6～7歲生理屈光度為+1.00D～+1.50D。（四）遠(yuǎn)視儲備量：新生兒的眼球較小，眼軸較短，此時雙眼處于遠(yuǎn)視狀態(tài)，這是生理性遠(yuǎn)視，稱之為“遠(yuǎn)視儲備量”。隨著兒童生長發(fā)育，眼球逐漸長大，眼軸逐漸變長，遠(yuǎn)視度數(shù)逐漸降低而趨于正視。遠(yuǎn)視儲備量不足指裸眼視力正常，散瞳驗光后屈光狀態(tài)雖未達到近視標(biāo)準(zhǔn)但遠(yuǎn)視度數(shù)低于相應(yīng)年齡段生理值范圍。如4～5歲的兒童生理屈光度為150～200度遠(yuǎn)視，則有150～200度的遠(yuǎn)視儲備量，如果此年齡段兒童的生理屈光度只有50度遠(yuǎn)視，意味著其遠(yuǎn)視儲備量消耗過多，有可能較早出現(xiàn)近視。（五）屈光度：人眼對光線的曲折能力，就是眼睛的屈光度，一般用“D”表示。（六）屈光不正：當(dāng)眼處于非調(diào)節(jié)狀態(tài)（靜息狀態(tài)）時，外界的平行光線經(jīng)眼的屈光系統(tǒng)后，不能在視網(wǎng)膜黃斑zhongxin凹聚焦，因此無法產(chǎn)生清晰的成像，稱為屈光不正，包括近視、遠(yuǎn)視、散光和屈光參差等。（七）斜視：是指一眼注視時，另一眼視軸偏離的異常眼位。斜視是與視覺發(fā)育、解剖發(fā)育、雙眼視覺功能和眼球運動功能密切相關(guān)的一組疾病。斜視患病率約為3%，其中出生后6個月內(nèi)先天性內(nèi)斜視患病率約為1%～2%，人群中先天性內(nèi)斜視患病率為0.1%。斜視除了影響美觀外，還會導(dǎo)致弱視及雙眼單視功能不同程度的喪失。早期zhiliao斜視可以在矯正眼位、恢復(fù)外觀的基礎(chǔ)上，促進視力發(fā)育和雙眼視覺功能的建立。（八）弱視：視覺發(fā)育期內(nèi)由于單眼斜視、屈光參差、高度屈光不正以及形覺剝奪等異常視覺經(jīng)驗引起的單眼或雙眼zuijia矯正視力低于相應(yīng)年齡正常兒童，且眼部檢查無器質(zhì)性病變，稱為弱視。分為屈光不正性弱視、屈光參差性弱視、斜視性弱視、形覺剝奪性弱視等。根據(jù)普查結(jié)果確定年齡在3～5歲兒童視力的正常值下限為0.5，6歲及以上兒童視力正常值下限為0.7。弱視患病率較高，為1%～5%，弱視zhiliao成功率隨著患兒年齡增加而下降，6歲之后較難矯正，應(yīng)早診斷早zhiliao。

2023-05-15 16:07:38【上新回顧】全自動影像測量儀LM-X系列

2022-11-18 16:15:48反應(yīng)離子刻蝕技術(shù): 反應(yīng)離子刻蝕概述：反應(yīng)離子腐蝕技術(shù)是一種各向異性很強、選擇性高的干法腐蝕技術(shù)。它是在真空系統(tǒng)中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的，利用了離子誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)來實現(xiàn)各向異性刻蝕，即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進化學(xué)反應(yīng)，同時離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。主要用于Si、SiO2、SiNx、半導(dǎo)體材料、聚合物、金屬的刻蝕以及光刻膠的去除等，廣泛應(yīng)用于物理，生物，化學(xué)，材料，電子等領(lǐng)域。工作原理：通常情況下，反應(yīng)離子刻蝕機的整個真空壁接地, 作為陽極, 陰極是功率電極, 陰極側(cè)面的接地屏蔽罩可防止功率電極受到濺射。要腐蝕的基片放在功率電極上。腐蝕氣體按照一定的工作壓力和搭配比例充滿整個反應(yīng)室。對反應(yīng)腔中的腐蝕氣體, 加上大于氣體擊穿臨界值的高頻電場, 在強電場作用下, 被高頻電場加速的雜散電子與氣體分子或原子進行隨機碰撞, 當(dāng)電子能量大到一定程度時, 隨機碰撞變?yōu)榉菑椥耘鲎? 產(chǎn)生二次電子發(fā)射, 它們又進一步與氣體分子碰撞, 不斷激發(fā)或電離氣體分子。這種激烈碰撞引起電離和復(fù)合。當(dāng)電子的產(chǎn)生和消失過程達到平衡時, 放電能繼續(xù)不斷地維持下去。由非彈性碰撞產(chǎn)生的離子、電子及及游離基(游離態(tài)的原子、分子或原子團) 也稱為等離子體, 具有很強的化學(xué)活性, 可與被刻蝕樣品表面的原子起化學(xué)反應(yīng), 形成揮發(fā)性物質(zhì), 達到腐蝕樣品表層的目的。同時, 由于陰極附近的電場方向垂直于陰極表面, 高能離子在一定的工作壓力下, 垂直地射向樣品表面, 進行物理轟擊, 使得反應(yīng)離子刻蝕具有很好的各向異性。所以，反應(yīng)離子刻蝕包括物理和化學(xué)刻蝕兩者的結(jié)合。刻蝕氣體的選擇對于多晶硅柵電極的刻蝕，腐蝕氣體可用Cl2或SF6，要求對其下層的柵氧化膜具有高的選擇比?？涛g單晶硅的腐蝕氣體可用Cl2/SF6或SiCl4/Cl2；刻蝕SiO2的腐蝕氣體可用CHF3或CF4/H2；刻蝕Si3N4的腐蝕氣體可用CF4/O2、SF6/O2或CH2F2/CHF3/O2；刻蝕Al（或Al-Si-Cu合金）的腐蝕氣體可用Cl2、BCl3或SiCl4；刻蝕W的腐蝕氣體可用SF6或CF4；刻蝕光刻膠的腐蝕氣體可用氧氣。對于石英材料, 可選擇氣體種類較多, 比如CF4、CF4+ H2、CHF3 等。我們選用CHF3 氣體作為石英的腐蝕氣體。其反應(yīng)過程可表示為：CHF3 + e——CHF+2 + F (游離基) + 2e，SiO 2 + 4F SiF4 (氣體) + O 2 (氣體)。SiO 2 分解出來的氧離子在高壓下與CHF+2 基團反應(yīng)，生成CO ↑、CO 2↑、H2O ↑、O F↑等多種揮發(fā)性氣體。對于鍺材料、選用含F(xiàn) 的氣體是十分有效的。然而, 當(dāng)氣體成份中含有氫時, 刻蝕將受到嚴(yán)重阻礙, 這是因為氫可以和氟原子結(jié)合, 形成穩(wěn)定的HF, 這種雙原子HF 是不參與腐蝕的。實驗證明, SF6 氣體對Ge 有很好的腐蝕作用。反應(yīng)過程可表示為：SF6 + e——SF+5 + F (游離基) + 2e，Ge + 4F——GeF4 (揮發(fā)性氣體) 。設(shè)備：典型的（平行板）RIE系統(tǒng)包括圓柱形真空室，晶片盤位于室的底部。晶片盤與腔室的其余部分電隔離。氣體通過腔室頂部的小入口進入，并通過底部離開真空泵系統(tǒng)。所用氣體的類型和數(shù)量取決于蝕刻工藝;例如，六氟化硫通常用于蝕刻硅。通過調(diào)節(jié)氣體流速和/或調(diào)節(jié)排氣孔，氣體壓力通常保持在幾毫托和幾百毫托之間的范圍內(nèi)。存在其他類型的RIE系統(tǒng)，包括電感耦合等離子體（ICP）RIE。在這種類型的系統(tǒng)中，利用RF供電的磁場產(chǎn)生等離子體。雖然蝕刻輪廓傾向于更加各向同性，但可以實現(xiàn)非常高的等離子體密度。平行板和電感耦合等離子體RIE的組合是可能的。在該系統(tǒng)中，ICP被用作高密度離子源，其增加了蝕刻速率，而單獨的RF偏壓被施加到襯底（硅晶片）以在襯底附近產(chǎn)生定向電場以實現(xiàn)更多的各向異性蝕刻輪廓。操作方法：通過向晶片盤片施加強RF（射頻）電磁場，在系統(tǒng)中啟動等離子體。該場通常設(shè)定為13.56兆赫茲的頻率，施加在幾百瓦特。振蕩電場通過剝離電子來電離氣體分子，從而產(chǎn)生等離子體。在場的每個循環(huán)中，電子在室中上下電加速，有時撞擊室的上壁和晶片盤。同時，響應(yīng)于RF電場，更大質(zhì)量的離子移動相對較少。當(dāng)電子被吸收到腔室壁中時，它們被簡單地送到地面并且不會改變系統(tǒng)的電子狀態(tài)。然而，沉積在晶片盤片上的電子由于其DC隔離而導(dǎo)致盤片積聚電荷。這種電荷積聚在盤片上產(chǎn)生大的負(fù)電壓，通常約為幾百伏。由于與自由電子相比較高的正離子濃度，等離子體本身產(chǎn)生略微正電荷。由于大的電壓差，正離子傾向于朝向晶片盤漂移，在晶片盤中它們與待蝕刻的樣品碰撞。離子與樣品表面上的材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，但也可以通過轉(zhuǎn)移一些動能來敲除（濺射）某些材料。由于反應(yīng)離子的大部分垂直傳遞，反應(yīng)離子蝕刻可以產(chǎn)生非常各向異性的蝕刻輪廓，這與濕化學(xué)蝕刻的典型各向同性輪廓形成對比。RIE系統(tǒng)中的蝕刻條件很大程度上取決于許多工藝參數(shù)，例如壓力，氣體流量和RF功率。 RIE的改進版本是深反應(yīng)離子蝕刻，用于挖掘深部特征。

2022-03-24 18:02:43大視場測量準(zhǔn)確性的影像因素分析: 大視場系統(tǒng)的重要考慮的是，大視場和大焦距并不能保證光學(xué)系統(tǒng)產(chǎn)生遠(yuǎn)心像。例如，人眼具有非常大的聚焦深度;然而，將手指放在手臂長度處，然后將它移到更靠近眼睛的地方，會讓你的手指看起來變大。失真通常也表現(xiàn)為圖像的球形“不成形”，人眼很難檢測到，但對測量精度非常有害。光學(xué)系統(tǒng)所需要的鏡頭來創(chuàng)造一個真正的遠(yuǎn)心圖像是復(fù)雜的，并且在它們產(chǎn)生的遠(yuǎn)心程度上是不同的。除此之外，在使用測量設(shè)備時，有許多因素會影響測量的有效性。OGP的Smartscope測量軟件優(yōu)秀操作功能，以確定試圖用QVI大視場系統(tǒng)測量該特性的正確放大倍數(shù)，在邊緣分析中的最小特征尺寸，軟件使用搜索區(qū)塊來衡量測量一個特征。只要每個特征有足夠的搜索面域，軟件就會進行一個有效的測量。搜索區(qū)塊的大小取決于放大倍數(shù)。隨著放大倍率增加，搜索區(qū)塊減少，軟件就需要更多的面域?qū)γ嬗蜻M行評估測量。如果你想測量的特征小于軟件推薦的最小特征尺寸，搜索到的區(qū)塊就不足以準(zhǔn)確地測量到特征尺寸。例如對于在不同放大倍率下測量同一圓形特征，隨著倍率的增加，更多的搜搜區(qū)域就被納入到計算的范疇內(nèi)以實現(xiàn)更精準(zhǔn)和可靠的測量。