- 2025-04-25 14:12:58反射全息光柵
- 反射全息光柵是一種基于全息技術制作的光學元件，它利用光的干涉和衍射原理，將特定的光波前信息記錄在全息材料中。該光柵能夠選擇性地反射或透射特定波長和角度的光，從而實現光的分束、合束、濾波等功能。反射全息光柵具有高衍射效率、高分辨率、窄帶寬等優良特性，廣泛應用于光譜分析、光通信、激光技術等領域，是現代光學系統中不可或缺的重要組件。
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反射全息光柵問答
- 2025-05-28 11:00:20激光跟蹤儀反射棱鏡怎么用
- 激光跟蹤儀反射棱鏡是一種廣泛應用于精確測量和空間定位的設備，廣泛用于建筑工程、土地測量以及工業制造中。這篇文章將詳細介紹激光跟蹤儀反射棱鏡的使用方法，特別是如何正確安裝和操作以確保測量數據的準確性。通過了解激光跟蹤儀反射棱鏡的工作原理、操作步驟及其維護方法，用戶可以更好地掌握這一工具，提升測量效率和精度。 激光跟蹤儀反射棱鏡作為一種反射標定裝置，它能反射激光束并傳遞準確的測量信息。激光跟蹤儀通過發送激光束到反射棱鏡，檢測反射回來的激光光束，通過計算光束的時間差，得出目標位置的空間坐標。反射棱鏡通常安裝在需要精確定位的物體上，確保跟蹤儀能夠準確測量到目標的每一個細微變化。 反射棱鏡的安裝與使用 選擇合適的反射棱鏡 根據測量任務的需求，選擇適合的反射棱鏡非常重要。不同類型的激光跟蹤儀反射棱鏡具有不同的反射性能和尺寸，確保棱鏡的規格和激光跟蹤儀兼容。 安裝反射棱鏡 安裝反射棱鏡時，確保其牢固固定在測量物體上。反射棱鏡的安裝位置應避免遮擋和干擾，保證激光束能夠準確地反射。一般來說，棱鏡的安裝角度要與激光跟蹤儀的發射方向平行，以確保激光束能夠順利反射回跟蹤儀。 校準跟蹤儀 在使用激光跟蹤儀進行測量之前，需對儀器進行校準。通過對比已知位置點和反射回來的激光信號，確認儀器的測量精度，并根據校準結果進行微調，以保證測量的準確性。 操作過程中的注意事項 操作時要確保反射棱鏡始終處于激光束的反射路徑中，避免誤差的產生。在進行長時間測量時，應定期檢查反射棱鏡的位置，防止因震動或環境變化導致反射棱鏡移位。 激光跟蹤儀反射棱鏡的維護與保養 反射棱鏡的精度和耐用性對測量結果至關重要。因此，定期清潔和保養反射棱鏡能夠有效延長其使用壽命，保證測量結果的可靠性。在清潔時，要使用專用的清潔工具，避免劃傷棱鏡表面。保持反射面清潔，可以減少光線損失，確保測量精度。 結論 激光跟蹤儀反射棱鏡作為精密測量工具的核心部件，其正確使用和維護直接關系到測量結果的準確性。在安裝、操作及保養過程中，用戶必須遵循標準流程，避免任何可能導致誤差的因素。通過科學合理的使用方法，激光跟蹤儀反射棱鏡能夠在各類工程和科研工作中提供的定位和測量支持。
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- 2022-05-20 22:19:40明美透反射雙光路數字切片掃描儀
- 近年來，隨著信息技術的快速發展，數字切片掃描已逐漸應用于醫學教學、病理診斷、科研領域。目前市面上的數字切片掃描儀主要分為兩類：箱式和顯微鏡式，兩者對比的話優點各異，箱式的結構上會更簡便，但功能相對比較單一；顯微鏡式的相當于是在普通顯微鏡上的升級改造，功能更加多樣性。接下來我們介紹的是明美光電顯微鏡式數字切片掃描儀，它通過自主設計的光源與電子手輪，完整保留了傳統顯微鏡的手動交互操作，在此基礎上新增了切片全景掃描的功能，而且支持透反射雙光路顯微系統掃描，既可以掃描透明的病理切片，亦可以掃描不透明的地質礦石類標本，應用十分廣泛。20X物鏡病理切片全景掃描圖（透射光路）20X物鏡礦石標本全景掃描圖（反射光路）明美數字切片掃描儀組成研究級正置顯微鏡機身，也可采用BX41、BX43、BX53等進口主機；標配透射光源，可選配反射照明模塊。高精度電動平臺，XY電動平臺行程80*50mm，閉環定位精度0.5μm；Z軸閉環定位精度0.1μm，步進高幀率掃描相機，掃描幀率＞120fps，分辨率1920*1200，曝光時間＜7μs，由于標配的是雙光路C接口，還預留一個接口可以用于安裝大靶面顯微相機，保留原顯微鏡單視野高分辨率拍照功能。快速無縫拼接系統，采用特殊優化的圖像拼接算法，針對月牙形，U型等各種異形切片樣品進行過拼接優化，能夠在掃描成像后秒出無縫全局大圖；15mm×15mm成像區域，10X物鏡掃描成像速度豐富的切片圖像管理功能，采用金字塔圖像數據結構，在不同放大倍率的瀏覽需求下按需調用不同分辨率的圖像，縮放瀏覽毫無卡頓感；提供API可獲取圖像數據底層Raw Data用于AI計算。掃描成像之前，應先通過顯微鏡閱片，快速確定切片是否可用于掃描以及需要掃描的區域（局部或全景），然后通過全自動顯微鏡系統掃描玻片采集得到高分辨率數字圖像，再用計算機軟件對這些圖像自動進行無縫隙拼接和處理，并獲得全視野數字化切片，可以自由觀察切片的任意位置，進行無限倍率放大、縮小或連續變倍觀察，這樣既能看到切片全貌，又能從細微處觀察病理變化，不再受鏡下單一視野的局限。 顯微數字切片掃描儀的切片信息長期保存，實現了數字化、信息化、網絡化，可以根據需求建立私有切片庫，在沒有顯微鏡和切片的條件下也能進行觀察；在實際使用過程中，針對不同的工作目的，需要有取舍的來選擇是采用傳統顯微鏡觀察模式還是采用掃描采圖模式，才能發揮出顯微數字切片掃描儀的技術優勢。來源：https://www.mshot.com/article/1367.html
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- 2018-11-25 07:53:26全息光柵的特點
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- 優尼康課程推薦KLA Instruments | Webinar課程：反射和透射：兩個優于一個。※適合新老客戶了解學習膜厚儀的使用；加深對產品的理解。 FILMETRICS同時測量光譜反射和透射對分析光學薄膜來講是非常重要的。歡迎來到F10-RT獨特的境界里。顯然這會限制我們只能用透明基底材料， 但這會讓我們更準確地測量光學系數 （特別是消光系數）。除五彩繽紛的介電薄膜外我們還會討論上百納米厚的金屬薄膜。*點擊“立刻注冊”即可預約線上課程 Michelle Shi應用工程師 @KLA InstrumentsMichelle Shi 是KLA Instrument Group Filmetrics 光學輪廓儀以及薄膜測量儀的應用工程師。Michelle 于2019年5月加入KLA公司, 擔任Filmetrics薄膜測量以及光學輪廓產品的應用，客戶支持以及業務開發，主要支持Profilm3D光學輪廓儀以及Filmetrics全系列薄膜測量產品。在加入KLA之前，Michelle在美國俄亥俄大學獲得物理學碩士學位并在NASA Ames硅谷研究ZX進行科學研究，以及在高新科技初創企業kaiaTech擔任高級工藝工程師負責半導體薄膜材料的研發及新應用。
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- 2020-10-16 11:46:53伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術獲取高反射吸收Ta2
- 伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術獲取高反射吸收Ta2O5薄膜為了獲取高性能紫外激光薄膜元件, 急需研制紫外高吸收薄膜, 某研究所采用伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射沉積技術鍍制 Ta2O5 薄膜進行研究. 其系統工作示意圖如下： 該研究所的離子束濺射鍍膜組成系統主要由濺射室、雙離子源、濺射靶、基片臺等部分組成. 其中雙離子源中的一個離子源適用于濺射靶材, 另個離子源是用于基材的預清洗. 用于濺射的離子源采用伯東的 KRI 聚焦型射頻離子源 380, 其參數如下: 伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術參數：射頻離子源型號RFICP 380Discharge 陽極射頻 RFICP離子束流>1500 mA離子動能100-1200 V柵極直徑30 cm Φ離子束聚焦流量15-50 sccm通氣Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型壓力< 0.5m Torr長度39 cm直徑59 cm中和器LFN 2000 理由：聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染 用于預清洗的離子源是采用伯東 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術參數:離子源型號 霍爾離子源eH3000eH3000LOeH3000MOCathode/NeutralizerHC電壓50-250V50-300V50-250V電流20A10A15A散射角度>45可充其他Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others氣體流量5-100sccm高度6.0“直徑9.7“水冷可選 其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10-5Pa, 采用伯東分子泵組 Hicube 80 Pro, 其技術參數如下：進氣法蘭氮氣抽速 N2,l/s極限真空 hpa前級泵型號前級泵抽速 m3/h前級真空安全閥DN 40 ISO-KF35< 1X10-7Pascal 202118AVC 025 MA 運行結果：伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術可以制備不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜. 伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
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