產品介紹:
Helios NanoLab DualBeam
一直以來,Helios NanoLab 都綜合采用了 FEI 的zui佳電子和離子光學系統、配件和軟件,能夠為jian端納米量級研究提供強大的解決方案。對于從事納米技術前沿研究的科學家,Helios NanoLab 能讓他們拓展研究邊界,為材料研究開辟新的天地。
借助極具價值的亞納米 SEM 成像技術、S/TEM 超薄樣本制備能力以及最jing確的原型設計功能,科學家能夠將 Helios NanoLab 當作理想的研究伴侶,為未來的科技進步開發創新的新材料和納米量級器件。
Helios NanoLab 的材料科學應用
在材料科學領域,研究人員面臨的挑戰是持續改善目前制造的材料和設備的質量。為了實現技術進步,在納米量級了解結構和成分細節至關重要。Helios NanoLab 設計用來以低至亞納米量級的分辨率提供多尺度、多維度洞察,讓研究人員能夠觀測樣本最微小的細節。Helios NanoLab 還可為原子分辨率 S/TEM 成像迅速制備zui高質量的樣本。此外,如果研究工作包括開發 MEMS 或 NEMS 器件,也可配備 Helios NanoLab 打造全功能原型。
Helios NanoLab 的電子工業應用
Helios NanoLab 是一款極其靈活的平臺,既能以極高的效率制備 TEM 樣本,又能開展高性能低電壓成像以分析高級邏輯和存儲器件。Helios Nanolab 具有大型和小型樣本室兩個配置,效率極高,并且是面向實驗室和近生產環境的低每樣本成本半導體分析工作流的關鍵組成部分。
Helios NanoLab 的自然資源應用
地質學家和礦藏工程師可以使用 Helios NanoLab 技術對鉆屑和微芯開展二維和三維巖石表征。它利用的 DualBeam 技術獨具特色,博采 FIB(聚焦離子束)銑削和 SEM(掃描電子顯微鏡)分析之長。借助自動化序列樣本銑削和成像功能,客戶可以創建二維序列圖像,進而開展三維容積重建。根據這些數據,客戶可以在微米至納米量級別觀測和量化孔隙網絡等紋理。
Helios NanoLab 的生命科學應用
要想在三維背景下了解生物事件,就必須采用專用的成像解決方案,而且這些成像解決方案應能以極高的分辨率呈現極小的細節,從而揭示出復雜網絡的超微結構和空間結構。Helios NanoLab 具有zhuo越的 SEM 性能和可靠、精確的 FIB 切片能力,還配備了高精度壓電工作臺,堪稱小型 DualBeam 平臺的ji致之選。出色的成像能力,輔以透鏡內和柱內檢測器提供的jian端高對比度檢測技術,能夠實現真正zhuo越的對比度。
報價:面議
已咨詢1090次SEM掃描電鏡
報價:面議
已咨詢2200次SEM掃描電鏡
報價:面議
已咨詢225次FIB-SEM DualBeam
報價:面議
已咨詢505次原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢284次FIB-SEM DualBeam
報價:面議
已咨詢256次FIB-SEM DualBeam
報價:面議
已咨詢249次冷凍電鏡 (Cryo-EM)
報價:面議
已咨詢323次FIB-SEM DualBeam
SU3900/SU3800 SE系列作為FE-SEM產品,配置超高分辨率與觀察能力。此系列突破了傳統SEM產品受安裝樣品尺寸與重量的限制,通過簡單的操作即可實現數據采集。可用于鋼鐵等工業材料,汽車、航空航天部件等超大、超重樣品的觀察。 此外,SE系列包括4種型號(兩種類型,兩個等級),滿足眾多領域的測試需求。用戶可以根據實際用途(如微觀結構控制:用于改善電子元件、半導體等材料的功能和性能;異物、缺陷分析:用于提高產品品質)選擇適合的產品。
1波長范圍:400 - 1000 nm 2每一像素同時檢測時間(ToA)和強度(ToT)3時間分辨率1.6 ns,有效幀速率> 500 MHz 4無損、數據驅動讀出速度高達80 Mhits / s
高性能電子光學系統 二次電子分辨率: 頂位二次電子探測器(2.0 nm at 1kV)* 高靈敏度: 高效PD-BSD, 超強的低加速電壓性能,低至100 V成像 大束流(>200 nA): 便于高效微區分析 性能優異 壓力可變: 具有優異的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配備高靈敏度低真空探測器(UVD)* 開倉室快速簡單換樣(Z大樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH) 微區分析: EDS, WDS, EBSD等等
ParticleX TC 全自動汽車清潔度分析系統 取代傳統顆粒物清潔度檢測方法,允許工程師看見微米尺寸的顆粒并確定其化學成分,從而判斷出污染源。