脈沖激光沉積系統（PLD）
離子束刻蝕/沉積系統 EIS-200
電鏡制樣 Desk V 薄膜沉積解決方案
熱蒸發和樣品制備 BenchTop Turbo
磁控濺射 Desktop Pro薄膜沉積-磁控濺射
簡介
EIS-200是Elionix推出的一款基于電子回旋共振技術（ECR）的小型離子束蝕刻系統，特別適合于科研用離子束刻蝕、減薄，清洗、沉積等。
EIS-200原理：
利用ECR技術產生高能Ar+離子束，Ar+離子束通過電場加速到達樣品表面，對樣品進行物理的轟擊達到刻蝕作用。
EIS-200具有以下優點：
方向性好，各向異性，陡直度高，側向刻蝕少
分辨率高
不受刻蝕材料限制，可對石英等材料進行蝕刻
可控制蝕刻Taper角
可以設定多樣的實驗條件
NPD(納米圖案成膜單元)選項（如下圖）
主要功能
納米級圖案刻蝕
高深寬比蝕刻
離子束沉積
表面清潔
離子減薄
技術能力
應用
納米級圖案刻蝕、高深寬比蝕刻、表面清潔、離子減薄等
SiO2 on Si substrate
Diamond Substrate（金剛石）
Quartz (Mask)
Oriented PET film
報價：面議
已咨詢55次沉積設備
報價：面議
已咨詢55次沉積設備
報價：面議
已咨詢54次沉積設備
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已咨詢62次沉積設備
報價：面議
已咨詢55次沉積設備
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已咨詢61次沉積設備
報價：面議
已咨詢61次刻蝕設備
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已咨詢2636次Nanomaster
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已咨詢14次Syskey 臺灣
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已咨詢1186次美國 Nano-master
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已咨詢1237次英國Oxford 離子刻蝕/沉積/去膠機
報價：面議
已咨詢816次英國Oxford 離子刻蝕/沉積/去膠機
報價：面議
已咨詢878次德國 Sentech
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應用 。 電子束曝光系統是實現電子束曝光 技術的硬件平臺，系統的性能決定了曝光工藝關鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數。
我們的SERS基底采用創新技術制造，使您可以進行SERS快速和重復測量，從而對SERS活性的樣品進行定性分析和定量分析。
GGB行業，一系列校準基板允許用戶校準多種GGB 行業的Picoprobe?探頭尖端。測量系統校準的基本原理是提供測量系統可以連接到的精確已知標準。
營業執照未審核
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