Syskey 小型多腔體鍍膜機 Mini Cluster

真空技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)中發(fā)揮著重要作用。半導(dǎo)體濺射、光刻、蝕刻等制造工藝需要在真空室中進行，以減少氣體分子對基板的影響, 經(jīng)過加工，保證生產(chǎn)質(zhì)量。在半導(dǎo)體制造中過程，不同類型的處理。

配置和優(yōu)勢：

? 靈活的基板尺寸可達 2 英寸。
? 基板支架加熱或冷卻。
? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%。
? 濺射/電子束/熱/離子蝕刻/氧化/退氣
? 用選定的靶材沉積多層薄膜。
?  Torr 可針對不同設(shè)備進行選擇。
- 可與手套箱集成。