IoN 100 WB是我們最新推出的具有高性價比的真空等離子清洗設備。它來源于IoN 100系列，IoN 100 WB延續了同樣的品質保障，包括可選壓力控制器、光譜終點檢測器以及各種不同的電極組構造。

IoN 100 WB旨在滿足客戶大批量生產的需求，著重于表面處理的多功能性和可控性。其先進的性能提供了出色的工藝控制、失效報警系統和數據采集軟件。這使得該設備可滿足半導體、生命科學等領域嚴格的控制要求。IoN 100 WB結構緊湊，集成度高，采用射頻（RF）頻率激發等離子體。 

IoN 100 WB的另一個獨特之處是可以迅速快捷的更換不同類型的電極結構。

規格參數 
工作腔室材料                                鋁（標配）
容積                                             107 升
內部尺寸                                      375 x 375 x 762 mm（寬/高/深）
　　　　　　　   

工藝氣體 
質量流量控制計                             最多至6路氣體
工藝壓力                                      200-2000 mTorr(取決于真空泵和氣體流量)
抽真空時間                                   大約1分鐘 (取決于真空泵)

射頻電源                                      風冷13.56MHz,600 瓦(標準配置)
供給需求電源　　　　　                 220V 單相, 50Hz
工藝氣體                                     輸入壓力 1-2 bar 
吹掃氣體                                     輸入壓力 1-2 bar 
壓縮空氣                                     輸入壓力 4-6 bar

機體

●  獨立的機體帶有所有電源和氣體接口
●  帶有旋轉墊腳的可轉動機身

設備尺寸
標準尺寸                                       1067 x 737 x 1245 mm（寬/高/深，不含泵）
重量                                              約239千克（不含泵）

可選項
● 不銹鋼腔體

● 壓力控制器
● 1%精度的真空規
● 指示燈柱
● 條形碼閱讀器
● 工藝氣體切換器
● 光譜終點檢測器

● 耐腐蝕性氣體的MFC
● 1000 瓦13.56 MHz射頻發生器
● 水冷機
● 液態單體操作裝置
● 真空泵（油泵、干泵或羅茨泵組）
● 汽相MFC

功能特性：
●  觸摸屏操作，圖形用戶界面（GUI）

●  可配置的腔室可使用不同類型電極，適用于大批量處理或特殊的垂直懸掛處理

●  使用Windows系統的工業計算機控制

●  工藝員、操作元、維護員訪問權限控制

●  自診斷功能和警報記錄功能，聯網在線診斷功能

●  以太網遠程控制功能

●  工藝編輯軟件提供了快速靈活的步驟控制功能

●  安裝簡單快捷