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等離子體輔助原子層沉積系統(tǒng) PEALD
- 品牌：美國ANRIC
- 型號： AT-400
- 產(chǎn)地：美洲 美國
- 供應(yīng)商報(bào)價(jià)：面議
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科睿設(shè)備有限公司
更新時(shí)間：2025-03-18 15:31:17 -
銷售范圍售全國
入駐年限第10年
營業(yè)執(zhí)照已審核
- 同類產(chǎn)品真空鍍膜及刻蝕設(shè)備(5件)
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詳細(xì)介紹
※ 廣泛應(yīng)用于光學(xué)薄膜、銅互連、MEMS、TSV、高k介質(zhì) 層、金屬柵電極（metal gate）等應(yīng)用。
※ 原子級別的薄膜沉積。
※ 沉積參數(shù)高度可控性：厚度、成分和結(jié)構(gòu)。
※ 優(yōu)異的薄膜均勻性和一致性。
※ 薄膜臺階覆蓋率高
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