*高精度表面粗糙度輪廓測定機,一機兩用,可進行表面粗糙度和輪廓形狀測量。
*配備有符合ZXISO,DIN,ANSI,JIS標(biāo)準(zhǔn)的五十多種評價參數(shù)。
*一個寬范圍,高分辨率的檢測器,提供了在同類產(chǎn)品中更優(yōu)越的高精度測量。
*通過簡單的一次性操作,可更換形狀、輪廓、測定裝置與表面粗糙度測量裝置,并不必對電纜重新布線。
*配有易于操作的操作桿,選定需要操作的軸,即可實現(xiàn)任何的移動。
*SEF680配有全息光柵尺,可提高寬/窄范圍測量精度和Z軸的分辨率,增加更加穩(wěn)定的安全系數(shù)。
*獨特的真直度保證。
*驅(qū)動裝置可以任意傾斜45度,更方便不規(guī)則樣品的量測。
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已咨詢103次小坂Kosaka 表面測量儀
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在日常的顯微鏡操作中體驗到更高的效率和舒適度。Visoria M材料顯微鏡適用于金屬、電子和聚合物行業(yè)以及材料科學(xué)實驗室。 使用編碼的功能、優(yōu)化的光強設(shè)置及其他顯微鏡功能可以提高您的工作流程效率。此外,顯微鏡的人體工學(xué)設(shè)計讓您能更加舒適地工作,最大限度減少勞損。
在日常的顯微鏡操作中體驗到更高的效率和舒適度。Visoria P偏光顯微鏡使用偏光來研究材料和地質(zhì)樣品的光學(xué)特性。 使用編碼的功能、優(yōu)化的光強設(shè)置及其他顯微鏡功能可以提高您的工作流程效率。此外,顯微鏡的人體工學(xué)設(shè)計讓您能更加舒適地工作,最大限度減少勞損。
HCS621GXY專為顯微鏡/光譜儀設(shè)計。此款冷熱臺可在 -190℃ ~ 600℃ 范圍內(nèi)控溫,同時允許光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺上蓋與底殼構(gòu)成一個氣密腔,可往內(nèi)充入氮氣等保護氣體,來防止樣品在負溫下結(jié)霜,或高溫下氧化。此外冷熱臺帶有可從密封腔外移動樣品的XY樣品微分移動尺。此外另有真空腔型號HCS421VXY提供。
HS1500G高溫?zé)崤_專為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應(yīng)用設(shè)計,可用于陶瓷、冶金、地質(zhì)、高溫材料等領(lǐng)域。可加裝樣品接電引線,可定制樣品區(qū)。此款高溫?zé)崤_可在 30℃ ~ 1500℃ 范圍內(nèi)控溫,同時允許光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺窗蓋與臺體構(gòu)成一個氣密腔,且樣品區(qū)偏離視窗中心,這樣即可以充入氮氣等保護氣體,來防止樣品高溫下反應(yīng),又可以通過旋轉(zhuǎn)窗片來移開窗片上的揮發(fā)物。
TS102GXY / TS102VXY可用于顯微鏡等光學(xué)設(shè)備。冷熱臺的溫控基于帕爾貼半導(dǎo)體溫控片(TEC),無需液氮制冷耗材即可達到 -40℃,適合長時間實驗。冷熱臺使用25 mm x 75 mm標(biāo)準(zhǔn)載玻片,并可進行顯微鏡下樣品精密移動。 TS102GXY的熱臺上蓋與臺體構(gòu)成一個氣密腔,TS102VXY的則是真空腔,腔內(nèi)可以充入保護氣體或抽真空(依據(jù)不同型號),來防止樣品在負溫下結(jié)霜。
HCP421V-PM可單獨使用,也可搭配顯微鏡/光譜儀使用。其可在 -190℃ ~ 400℃ 范圍內(nèi)控溫,同時允許探針電測試、光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。探針臺上蓋與底殼構(gòu)成一個可抽真空的密封腔,亦可內(nèi)充入氮氣等保護氣體,來防止樣品在負溫下結(jié)霜,或高溫下氧化。
HCP421V-MP可單獨使用,也可搭配顯微鏡/光譜儀使用。其可在 -190℃ ~ 400℃ 范圍內(nèi)控溫,同時允許探針電測試、光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。探針臺上蓋與底殼構(gòu)成一個可抽真空的密封腔,亦可內(nèi)充入氮氣等保護氣體,來防止樣品在負溫下結(jié)霜,或高溫下氧化。
HCP421V-MPS Instec的真空型mini臺式探針臺系列是可從外部移動探針進行點針的桌上型探針臺,涵蓋多型號、多溫度范圍。同時允許溫控、探針電測試、光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。探針臺上蓋與底殼構(gòu)成一個可抽真空的密封腔,亦可內(nèi)充入氮氣等保護氣體,來防止樣品在負溫下結(jié)霜,或高溫下氧化。