采用動態(tài)圖像法(ISO 13322-2)分析0.8 μm 到 8 mm之間的顆粒粒徑粒形信息。
寬粒徑分布樣品的準(zhǔn)確分析
對于窄分布及多峰分布樣品具有優(yōu)異的分辨率
微量過大或過小顆粒都能夠準(zhǔn)確檢測
結(jié)果完全可以和篩分及激光粒度儀結(jié)果進行比對
分析評估選項豐富(不同粒徑定義的粒徑參數(shù),多種粒形參數(shù),顆粒圖庫,單張顆粒圖像分析等)
重現(xiàn)性非常好
典型測量時間1-3min,可測試樣品量大
“X-Change“分散模塊切換系統(tǒng),適合干法和濕法測量
強LED光源及高分辨率相機以獲得清晰的結(jié)果
操作簡單,幾乎免維護
Microtrac MRB獨特的雙鏡頭技術(shù)是動態(tài)圖像分析發(fā)展的里程碑。通過同時使用兩個不同放大倍數(shù)的相機,獲得了非常寬的動態(tài)測量范圍。這是在沒有硬件調(diào)整或修改的情況下完成的,并且不會影響精度。每個鏡頭專用于一個測量范圍。 放大鏡頭以高的精度分析細顆粒,而基準(zhǔn)鏡頭以很好的統(tǒng)計數(shù)據(jù)檢測較大的顆粒。一個特殊的算法結(jié)合了兩個相機提供的信息,并在測量范圍內(nèi)提供準(zhǔn)確的粒徑分布,已有三十多年! 這種設(shè)計解決了許多圖像分析系統(tǒng)一個重大的缺點,只使用一個鏡頭,如顯微鏡。這種儀器要么在寬粒徑分布范圍內(nèi),不能正確地測量細顆粒,要么由于視野小而無法準(zhǔn)確捕獲大顆粒。
測量原理
在測量過程中,雙CCD鏡頭同時工作:基準(zhǔn)鏡頭(藍色)分析較大的顆粒,放大鏡頭(紅色)捕捉較小的顆粒。雙CCD鏡頭技術(shù)可確保粒度分布中所有顆粒的ZJ測量條件。
在顆粒通過測量區(qū)域之前,正確的樣品制備和顆粒分散與實際分析測量一樣重要。特別是對于容易團聚的細粉顆粒,充分分散對測量結(jié)果的可靠性至關(guān)重要。因此,不同的進樣方式有助于在不破壞單個顆粒的情況下實現(xiàn)團聚體的分散。我們的X-Change分散模塊切換系統(tǒng)很好地滿足了這一要求。
精心設(shè)計,實現(xiàn)ZD靈活性
CAMSIZER X2的模塊化“X-Change”系統(tǒng)提供三種可選分散方法,允許為每種樣品類型選擇ZJ分散方法:壓縮空氣分散X-jet、重力分散X-Fall、濕法分散X-Flow。模塊化及插拔式設(shè)計,允許在一分鐘內(nèi)方便快速地交換分散模塊。
通過壓縮空氣分散
X-Jet分散模塊通過文丘里噴嘴分散樣品,適用于粉末的有效分析。顆粒的實際測量發(fā)生在氣流中。分散壓力可設(shè)置在0 kPa和460 kPa之間。這確保了所有樣品類型的ZJ分析條件。
在液體中分散
CAMSIZER X2還提供了使用X-Flow分散模塊分析液體中顆粒的選項。懸浮液在一個閉環(huán)中流過一個玻璃樣品池,通過鏡頭記錄顆粒圖像。集成超聲系統(tǒng)有助于進一步分散過程。
通過重力分散
X-Fall分散模塊可用于敏感樣品的無損測量,以盡量減少自由落體過程中顆粒破碎。分析后可回收樣品。
X-JET壓縮空氣分散
由于表面作用力,許多材料容易團聚。在通過文丘里噴嘴時,X-Jet模塊有效地分散氣流中的顆粒。分散壓力可根據(jù)單個顆粒的需要設(shè)置。例如,對于易碎顆粒,減壓可確保無損測量。通過測量區(qū)域后,樣品由真空吸塵器自動從分析儀中取出。
X-FLOW濕法分散模塊測量
X-Flow濕法分散模塊分析0.8μm至1 mm粒徑范圍內(nèi)的懸浮液。樣品在從分散槽到流動池的閉環(huán)內(nèi)移動,在樣品池中,雙CCD相機系統(tǒng)捕捉顆粒圖像。X-Flow分散模塊配有超聲波浴和強大的離心泵,以確保有效分散。適合的分散介質(zhì)是水、乙醇以及非極性有機溶劑。
X-FALL重力分散模塊
使用X-Fall模塊可以分析流動的、不易團聚的樣品。這種測量是無損的,因為顆粒通過視野直接從斜槽落下。X-Fall適用于粒徑ZG可達8 mm的顆粒;對過大顆粒的檢測靈敏度非常高。與壓縮空氣分散不同的是,X-Fall測量后樣品可以回收
磨料的棱角度
顆粒破碎組分分析
玻璃微珠中聚集顆粒測量
增材制造用高分子或金屬粉末顆粒的圓度分析(直接影響流動性和包裝密度)
針狀晶體的長度和直徑
對砂粒的圓度進行分析,以評估其作為建筑材料或支撐劑的可使用性,或用于地質(zhì)檢查
散裝物料的許多特性,例如流動性、溶解性、過濾效率、反應(yīng)性、耐磨性和氣味等,都主要受粒度的影響。因此,粒度確定在許多不同的工業(yè)分支中都被作為質(zhì)量控制的一部分。
金屬粉末
金屬和礦物粉末
水泥
化學(xué)試劑
活性炭
清潔劑
建筑原料
化學(xué)試劑
藥粉/顆粒/制劑
玻璃 / 玻璃珠
塑料光纖
塑料粉末
木質(zhì)纖維
咖啡
食物
鹽 / 糖
耐火材料
研磨料
砂子
測量原理 | 動態(tài)圖像分析(ISO 13322-2) |
測量范圍 | 0.8 μm to 8 mm 10 μm to 8 mm (自由落體分散模式) 0.8 μm to 5 mm (壓縮空氣分散模式) 0.8 μm to 1 mm (液體分散模式) |
分析類型 | 干法和濕法分析 |
測量時間 | 約1-3分鐘(視待測樣品進樣量) |
鏡頭數(shù)量 | 2 |
樣品量 | < 20 mg - 500 g(視待測樣品性質(zhì)和測量模式) |
測量方式< | > 300 images/s, 每張約4.2 MPixel |
測量區(qū)域?qū)挾?/span> | ~ 20 x 20 mm |
分辨率 | 0.8μm每像素 |
測量參數(shù) | 粒度(最小粒徑、長度、平均直徑等) 顆粒形狀(縱橫比、對稱性、球形度、凹凸性等,依據(jù)ISO 9276-6標(biāo)準(zhǔn)) |
設(shè)備尺寸(寬x高x深) | ~ 850 x 580 x 570 mm |
重量 (測量單元) | ~ 50 kg |
操作單元 | 四核PC,包括Windows 10、顯示器、鍵盤和鼠標(biāo)、網(wǎng)卡、用于硬件通信的PC接口卡、評估軟件 |
上傳人:廣州領(lǐng)拓儀器科技有限公司
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在日常的顯微鏡操作中體驗到更高的效率和舒適度。Visoria M材料顯微鏡適用于金屬、電子和聚合物行業(yè)以及材料科學(xué)實驗室。 使用編碼的功能、優(yōu)化的光強設(shè)置及其他顯微鏡功能可以提高您的工作流程效率。此外,顯微鏡的人體工學(xué)設(shè)計讓您能更加舒適地工作,最大限度減少勞損。
在日常的顯微鏡操作中體驗到更高的效率和舒適度。Visoria P偏光顯微鏡使用偏光來研究材料和地質(zhì)樣品的光學(xué)特性。 使用編碼的功能、優(yōu)化的光強設(shè)置及其他顯微鏡功能可以提高您的工作流程效率。此外,顯微鏡的人體工學(xué)設(shè)計讓您能更加舒適地工作,最大限度減少勞損。
HCS621GXY專為顯微鏡/光譜儀設(shè)計。此款冷熱臺可在 -190℃ ~ 600℃ 范圍內(nèi)控溫,同時允許光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺上蓋與底殼構(gòu)成一個氣密腔,可往內(nèi)充入氮氣等保護氣體,來防止樣品在負溫下結(jié)霜,或高溫下氧化。此外冷熱臺帶有可從密封腔外移動樣品的XY樣品微分移動尺。此外另有真空腔型號HCS421VXY提供。
HS1500G高溫?zé)崤_專為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應(yīng)用設(shè)計,可用于陶瓷、冶金、地質(zhì)、高溫材料等領(lǐng)域。可加裝樣品接電引線,可定制樣品區(qū)。此款高溫?zé)崤_可在 30℃ ~ 1500℃ 范圍內(nèi)控溫,同時允許光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。熱臺窗蓋與臺體構(gòu)成一個氣密腔,且樣品區(qū)偏離視窗中心,這樣即可以充入氮氣等保護氣體,來防止樣品高溫下反應(yīng),又可以通過旋轉(zhuǎn)窗片來移開窗片上的揮發(fā)物。
TS102GXY / TS102VXY可用于顯微鏡等光學(xué)設(shè)備。冷熱臺的溫控基于帕爾貼半導(dǎo)體溫控片(TEC),無需液氮制冷耗材即可達到 -40℃,適合長時間實驗。冷熱臺使用25 mm x 75 mm標(biāo)準(zhǔn)載玻片,并可進行顯微鏡下樣品精密移動。 TS102GXY的熱臺上蓋與臺體構(gòu)成一個氣密腔,TS102VXY的則是真空腔,腔內(nèi)可以充入保護氣體或抽真空(依據(jù)不同型號),來防止樣品在負溫下結(jié)霜。
HCP421V-PM可單獨使用,也可搭配顯微鏡/光譜儀使用。其可在 -190℃ ~ 400℃ 范圍內(nèi)控溫,同時允許探針電測試、光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。探針臺上蓋與底殼構(gòu)成一個可抽真空的密封腔,亦可內(nèi)充入氮氣等保護氣體,來防止樣品在負溫下結(jié)霜,或高溫下氧化。
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HCP421V-MPS Instec的真空型mini臺式探針臺系列是可從外部移動探針進行點針的桌上型探針臺,涵蓋多型號、多溫度范圍。同時允許溫控、探針電測試、光學(xué)觀察和樣品氣體環(huán)境控制。探針臺上蓋與底殼構(gòu)成一個可抽真空的密封腔,亦可內(nèi)充入氮氣等保護氣體,來防止樣品在負溫下結(jié)霜,或高溫下氧化。