Chemcut - 濕法蝕刻設備
PVA Munich Metrology - 晶圓表面測量/晶圓表面制備系統
焊線自動測量系統
晶圓倉儲與包裝自動化-Kainova Tech
DENTON VACUUM - 銦沉積
產品簡介
導線框架(QFN)和BGA背蝕刻和半蝕刻系統
| 鹼性蝕刻： ?蝕刻速率：25 - 40 um / min，適用於厚銅(15um以上)蝕刻技術。
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| 酸性蝕刻： ?蝕刻速率：5-10微米/分鐘，適用於簿銅(15um以下)蝕刻技術。 |  | |
Chemcut 2300 系列
小批量生產批量和原型系統
Chemcut 2300 是一種緊湊，雙面，水平，傳送帶式，振蕩噴射處理系統系列，采用了與大型系統相同的成熟技術和質量。 2300系列非常適用于實驗室，原型和小批量印刷電路以及化學機械加工零件，儀表板和銘牌。
本系列濕法設備有多種配置，可用于銅和氯化鐵蝕刻，堿性氨蝕刻，抗蝕劑顯影，化學清洗和抗蝕劑剝離。該機器的特殊版本可用于專業處理，如使用氫氟酸和硝酸混合物進行蝕刻以及高溫蝕刻（zui高160°F，71°C）。
適用于： 鐵蝕刻 銅蝕刻 堿性蝕刻 抗蝕劑顯影 抗蝕剝離 寬度15到20英寸 18 X 24功能
| 應用于： 小批量商店 開發實驗室 研發部門 大學 特殊加工 替代化學品 研磨特殊合金 減少廢物
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濕式加工設備 CC8000
CC8000 設計用於加工半導體，IC (引線框架和IC基板)，高端HDI PCB / FPC，觸控和LCD顯示螢幕，太陽能和精密金屬零件。其獨特的噴涂架設計使其能夠達到更高水平的蝕刻品質。自啟動以來，已成交并安裝了700多個系統。
| 晶圓圖案制作： ?乾膜顯影 晶圓Bumping濕法工藝： ?光阻顯影：與Pad制作類似
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報價：面議
已咨詢2324次濕法蝕刻設備
報價：面議
已咨詢1570次濕法激光粒度儀
報價：面議
已咨詢1583次濕法激光粒度儀
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已咨詢1607次濕法激光粒度儀
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已咨詢1879次濕法激光粒度儀
YXLON Cougar EVO系列主要為SMT半導體和實驗室應用提供“絕佳"檢測解決方案，同時保持最小系統占用空間，以實現最大的便利性。優質設計和新的超銳顯示器簡化，增強可靠的X射線檢查。
WEB9051離心機是WEB9000系列的最新型號。 是WEB Technology長期在半導體晶片恒定加速度測試的研究成果。 設計重點強調安全性高，可靠性高和適應性廣。
TherMoiré 設備系列能提供廣泛的平整度檢測特性技術。是溫度效應測量技術的行業先鋒，全球二十大半導體生產商，都采用了Akrometrix的解決方案。
ABET 所制造的太陽光模擬器(Solar Simulators) 及 IV、QE/IPCE 量測系統 (IV-Testing Measurement Systems) 提供了無與倫比的價格和效能。
靈活丶高速丶定量的細胞成像系統 全面超越轉盤激光共聚焦的限制，為定量的活細胞成像而設計！ Opterra II 專為活細胞長時間連續成像設計，是對敏感活細胞樣本成像的最佳選擇。在蛋白質定位和運輸丶細胞內離子成像丶微管和囊泡運動丶細胞核結構和動態等均有上佳表現。
世界上最快的超高分辨率顯微鏡 活細胞、高速、超高分辨率、3D 成像 分辨率 20nm@XY，50nm@Z， 采用單分子定位技術，單層掃描時間 10 秒鐘。
快速、靈活的活體深層成像平臺更深 (1350um)、更快 (45FPS@12KHz)、更清楚、并適合大動物成像。
營業執照已審核
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