托托科技無掩模光刻機TTT-07-UV Litho-ACA Pro

步進式光刻 更高的精度 激光主動對焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm

中芯熱成精密光刻機

本設備是我公司專門針對各大、專院校及科研單位研發使用的一種精密光刻機，主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產。

濕法工藝晶圓溫度測量系統 光刻機晶圓溫度測量系統

荷蘭SCIL全自動納米壓印光刻機

荷蘭SCIL科研級納米壓印光刻機

DaLI無掩膜納米光刻機

采用AOD激光操控技術，光斑定位精度優于1nm，高精度套刻對準，結構邊緣超平滑，可輕松構建1微米以下線寬結構。 先進的AOD激光操控技術，使得DaLI具有超高的激光定位精度（優于1nm），超長的有效壽命，以及極高的穩定性。DaLI主要適用于廣泛應用于MEMS、材料科學、微流控、微光學器件及其它微納加工領域。

桌上型激光直寫光刻系統Dilase 250

主要優勢 ? 小巧桌上型系統 ? 掩膜板制作及激光直寫 ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20

URE-2000/35型紫外曝光光刻機

創新采用三柔性支點實現高精度自動調平；真空接觸自動曝光；樣片升降、調平、接觸、曝光、復位實現自動化控制；采用積木錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明；可連續設定分離間隙；采用雙目雙視場顯微鏡實現高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。