瑞典Mycronic FPS 6100多功能掩膜版光刻機(jī)
使多功能光掩模制造
具有無與倫比的靈活性
FPS6100傳遞的畫面質(zhì)量和生產(chǎn)效率有所提高,符合當(dāng)下更為先進(jìn)的多功能市場細(xì)分的要求。
許多應(yīng)用和生產(chǎn)環(huán)境可以設(shè)置FPS6100:電子包裝、觸摸屏、濾色鏡、精細(xì)的金屬膜片、3D模具等等。這意味著你可以充分利用現(xiàn)行產(chǎn)品體系,同時(shí)瞄準(zhǔn)新的商機(jī)。
與之前的FPS5500相比,F(xiàn)PS6100能夠提供更高的曝光速度以及更優(yōu)質(zhì)的畫面質(zhì)量。如果您的FPS系統(tǒng)是老一代的,您可以將它升級至FPS6100系列,不僅節(jié)省成本同時(shí)提高經(jīng)營的能力和質(zhì)量。
主要優(yōu)勢:
· 生產(chǎn)效率提高,曝光速度更快,減少輔助操作時(shí)間
· 畫面質(zhì)量更優(yōu)質(zhì),更小的成像單位
· 6種曝光水平和干板曝光的平臺(tái)可擴(kuò)展性
· FPS5100/5300/5500可升級
技術(shù)指標(biāo)
* 掩膜可伸展尺寸到達(dá)可選擇的1100×1100 和 900×1200
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ASML 光刻機(jī) Twinscan NXT:1980Di
Syskey 緊湊式濺射系統(tǒng) Compact Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達(dá)6英寸,基板架加熱溫度最高可達(dá)500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%, 最多可配備5個(gè)6英寸磁控濺射源(可選配3或4個(gè)),支持射頻、直流或脈沖直流電源,最多可支持3條氣體管路,支持順序沉積和共沉積。
Syskey 緊湊式熱蒸發(fā)系統(tǒng) Compact Thermal ,靈活的基板尺寸,最大可達(dá)6英寸, 基板架加熱溫度最高可達(dá)500℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%,可選配電子束或熱舟蒸發(fā)源(最多3個(gè)),速率控制沉積,可沉積多層薄膜,選用特定目標(biāo)材料
高真空濺射系統(tǒng) HV Sputter,靈活的基板尺寸,最大可達(dá)12英寸或200×200毫米, 基板架加熱溫度最高可達(dá)800℃,出色的薄膜均勻性,誤差小于±3%
超高真空磁控濺射鍍膜機(jī) UHV Sputter,? 基板支架加熱至 800 °C ? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3% ? 磁控濺射源(數(shù)量最多 8 個(gè)),可選強(qiáng)磁版本
Syskey 高真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)HV Thermal 高真空熱蒸發(fā)系統(tǒng)可提供的真空環(huán)境 用于常見薄膜沉積,包括金屬、有機(jī)物、鈣鈦礦和化合物。全自動(dòng)系統(tǒng)可滿足各種應(yīng)用要求,包括OLED、OPV、OPD等。
Syskey 超高真空熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)UHV Thermal, ? 靈活的基板尺寸可達(dá) 8 英寸? 基板支架加熱至 800 °C? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%? 船和電池源(數(shù)量最多 6 個(gè))? 可以共蒸發(fā)和摻雜。? 用選定的目標(biāo)材料沉積多層薄膜? 可與其他沉積系統(tǒng)集成
Syskey 高真空電子束鍍膜系統(tǒng) HV E-beam, 靈活的基板尺寸可達(dá) 12 英寸,? 優(yōu)異的薄膜均勻性小于 ±3%