VibroMet 2振動拋光機可快速去除樣品表面機械化制樣后殘留的細微變形層，從而得到無應力的制備表面，而不必使用電解拋光制備所必需的危險電解液。結合VibroMet 2與MasterMet 2二氧化硅拋光液對樣品進行化學-機械拋光，可適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）。不
同于傳統的振動拋光機，VibroMet 2可以產生幾乎完全水平方向的振動，最大限度地提高了樣品接觸拋光布的時間。用戶設定好程序后就可以離開，樣品會在拋光盤中自動地開始振動拋光。
快速去除樣品表面變形層
水平運動溫和地拋光樣品不引起機械應力
所得樣品表面適用于背散射電子衍射（EBSD）或原子力顯微鏡分析（AFM）
對混合材料和不均勻樣品都能達到wan美的制備效果
無需使用危險電解液
替換電解拋光儀和危險電解液
結合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液，MicroCloth 拋光布對樣品進行化學-機械拋光
設定后無需過多留心
樣品在拋光盤中可自動開始振動拋光
12in [305 mm]直徑拋光盤可同時制備多達18個樣品
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在日常的顯微鏡操作中體驗到更高的效率和舒適度。Visoria M材料顯微鏡適用于金屬、電子和聚合物行業以及材料科學實驗室。 使用編碼的功能、優化的光強設置及其他顯微鏡功能可以提高您的工作流程效率。此外，顯微鏡的人體工學設計讓您能更加舒適地工作，最大限度減少勞損。
在日常的顯微鏡操作中體驗到更高的效率和舒適度。Visoria P偏光顯微鏡使用偏光來研究材料和地質樣品的光學特性。 使用編碼的功能、優化的光強設置及其他顯微鏡功能可以提高您的工作流程效率。此外，顯微鏡的人體工學設計讓您能更加舒適地工作，最大限度減少勞損。
HCS621GXY專為顯微鏡/光譜儀設計。此款冷熱臺可在 -190℃ ~ 600℃ 范圍內控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺上蓋與底殼構成一個氣密腔，可往內充入氮氣等保護氣體，來防止樣品在負溫下結霜，或高溫下氧化。此外冷熱臺帶有可從密封腔外移動樣品的XY樣品微分移動尺。此外另有真空腔型號HCS421VXY提供。
HS1500G高溫熱臺專為顯微鏡/光譜儀上的超高溫應用設計，可用于陶瓷、冶金、地質、高溫材料等領域。可加裝樣品接電引線，可定制樣品區。此款高溫熱臺可在 30℃ ~ 1500℃ 范圍內控溫，同時允許光學觀察和樣品氣體環境控制。熱臺窗蓋與臺體構成一個氣密腔，且樣品區偏離視窗中心，這樣即可以充入氮氣等保護氣體，來防止樣品高溫下反應，又可以通過旋轉窗片來移開窗片上的揮發物。
TS102GXY / TS102VXY可用于顯微鏡等光學設備。冷熱臺的溫控基于帕爾貼半導體溫控片（TEC），無需液氮制冷耗材即可達到 -40℃，適合長時間實驗。冷熱臺使用25 mm x 75 mm標準載玻片，并可進行顯微鏡下樣品精密移動。 TS102GXY的熱臺上蓋與臺體構成一個氣密腔，TS102VXY的則是真空腔，腔內可以充入保護氣體或抽真空（依據不同型號），來防止樣品在負溫下結霜。
HCP421V-PM可單獨使用，也可搭配顯微鏡/光譜儀使用。其可在 -190℃ ~ 400℃ 范圍內控溫，同時允許探針電測試、光學觀察和樣品氣體環境控制。探針臺上蓋與底殼構成一個可抽真空的密封腔，亦可內充入氮氣等保護氣體，來防止樣品在負溫下結霜，或高溫下氧化。
HCP421V-MP可單獨使用，也可搭配顯微鏡/光譜儀使用。其可在 -190℃ ~ 400℃ 范圍內控溫，同時允許探針電測試、光學觀察和樣品氣體環境控制。探針臺上蓋與底殼構成一個可抽真空的密封腔，亦可內充入氮氣等保護氣體，來防止樣品在負溫下結霜，或高溫下氧化。
HCP421V-MPS Instec的真空型mini臺式探針臺系列是可從外部移動探針進行點針的桌上型探針臺，涵蓋多型號、多溫度范圍。同時允許溫控、探針電測試、光學觀察和樣品氣體環境控制。探針臺上蓋與底殼構成一個可抽真空的密封腔，亦可內充入氮氣等保護氣體，來防止樣品在負溫下結霜，或高溫下氧化。
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