1. 產(chǎn)品簡(jiǎn)介 WH-SC-01勻膠機(jī)適用于半導(dǎo)體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導(dǎo)電玻的半導(dǎo)體工藝、制版、及表面涂覆等工藝，由汶顥股份自主研發(fā)，具有獨(dú)立知識(shí)產(chǎn)權(quán)。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動(dòng)迅速等優(yōu)點(diǎn)，并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。 勻膠機(jī)具有快速啟動(dòng)、快速切換轉(zhuǎn)速和轉(zhuǎn)速穩(wěn)定的性能，能夠保證膠膜厚度的一致性和均勻性。采用全觸摸屏控制，實(shí)現(xiàn)啟/?？煽?，轉(zhuǎn)速實(shí)時(shí)觀察、三檔轉(zhuǎn)速可來(lái)回切換等功能，啟動(dòng)后在低速下進(jìn)行勻膠，再切換至高速下進(jìn)行甩膠，轉(zhuǎn)速及相應(yīng)的時(shí)間分別可調(diào)； 儀器配置了“安全開(kāi)關(guān)”按鈕，儀器運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，上蓋處于關(guān)閉狀態(tài)，一旦上蓋打開(kāi)，將觸發(fā)“安全開(kāi)關(guān)”，儀器停止運(yùn)轉(zhuǎn)，起到保護(hù)作用。 2. 技術(shù)參數(shù) ?轉(zhuǎn)速：硅片4英寸（含）以內(nèi)300-8500RPM；4英寸以上300-6000RPM ?時(shí)間控制：1-32767s ?轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性：±1% ?膠的均勻性：±3% ?參數(shù)設(shè)定：觸摸屏設(shè)置參數(shù) ?適用于φ28至φ200mm硅片及其它材料等勻膠 ?電源輸入：AC220V±10V，50HZ ?功率：60W ?重量：13kg ?外形尺寸：300（W）*227（H）*350（D） ?工作環(huán)境：溫度0℃-40 ℃，相對(duì)濕度＜80 %

CIF勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。

英國(guó)Ossila公司勻膠機(jī)，操作簡(jiǎn)單，方便實(shí)用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案，其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤(pán)式旋涂吸盤(pán)，無(wú)需真空泵或充氮?dú)猓湍苓_(dá)到很好的旋涂效果。

T*P1：功能清晰，易操作 文本顯示器，中英文可選；清晰的功能按鍵；手套箱過(guò)渡艙內(nèi)進(jìn)出。 TOP2：材料先進(jìn)，耐腐蝕 易清潔注塑內(nèi)腔；HDPE材料真空吸盤(pán)；耐溶劑PC涂層蓋。 TOP3：設(shè)計(jì)合理，性能穩(wěn)定 75W直流無(wú)刷電機(jī)，單片機(jī)控制；不易進(jìn)膠堵膠設(shè)計(jì)；旋涂?jī)?nèi)腔易拆卸清理更換。

英國(guó)Ossila公司勻膠機(jī)，操作簡(jiǎn)單，方便實(shí)用，旋涂均勻，結(jié)構(gòu)小巧緊湊，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案，其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤(pán)式旋涂吸盤(pán)，無(wú)需真空泵或充氮?dú)?，就能達(dá)到很好的旋涂效果?？蓪?duì)大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂，尤其是對(duì)超薄樣品，即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到wan美的旋涂效果。不會(huì)出現(xiàn)真空吸盤(pán)旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象，影響涂層的均勻性。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)及表面涂覆等工藝。

CIF勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速，旋涂均勻，操作簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用，為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué)，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。