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2025-01-10 10:49:44等離子表面處理安裝方便: 等離子表面處理設備安裝相對方便，主要因其設計緊湊、模塊化結構。安裝過程通常包括定位、連接電源與氣源、調試等步驟。現代等離子設備多采用即插即用設計，減少了復雜布線，簡化了安裝流程。同時，廠家通常提供詳盡的安裝指南和技術支持，確保安裝過程順利進行。這使得等離子表面處理設備在各種應用場景中能快速部署，提高生產效率。

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: Diener PlasmaBeam 等離子表面處理裝置; 國外歐洲; ￥110000; 上海爾迪儀器科技有限公司
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: GSL1100X-PJF等離子表面處理儀; 國內遼寧; 面議; 沈陽科晶自動化設備有限公司
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: GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀; 國內遼寧; 面議; 沈陽科晶自動化設備有限公司
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: Diener Tetra30 等離子表面處理儀; 國外歐洲; ￥500000; 上海爾迪儀器科技有限公司
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: Diener PlasmaBeamMini 等離子表面處理; 國外歐洲; ￥100000; 上海爾迪儀器科技有限公司
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等離子表面處理安裝方便問答

2023-03-14 12:04:54等離子去膠機（Plasma Cleaner）: 等離子去膠機（Plasma Cleaner）為何要去除光刻膠？在現代半導體生產過程中，會大量使用光刻膠來將電路板圖圖形通過掩模版和光刻膠的感光與顯影，轉移到晶圓光刻膠上，從而在晶圓表面形成特定的光刻膠圖形，然后在光刻膠的保護下，對下層薄膜或晶圓基底完成進行圖形刻蝕或離子注入，最后再將原有的光刻膠徹底去除。去膠是光刻工藝中的最后一步。在刻蝕/離子注入等圖形化工藝完成后，晶圓表面剩余光刻膠已完成圖形轉移和保護層的功能，通過去膠工藝進行完全清除。光刻膠去除是微加工工藝過程中非常重要的環節，光刻膠是否徹底去除干凈、對樣片是否有造成損傷，都會直接影響后續集成電路芯片制造工藝效果。半導體光刻膠去除工藝有哪些？半導體光刻膠去除工藝，一般分成兩種，濕式去光刻膠和干式去光刻膠。濕式去膠又根據去膠介質的差異，分為氧化去膠和溶劑去膠兩種類別。干式去膠適合大部分去膠工藝，去膠徹底且速度快，是現有去膠工藝中zui好的方式。一、等離子去膠機簡述：氧等離子去膠是利用氧氣在微波發生器的作用下產生氧等離子體，具有活性的氧等離子體與有機聚合物發生氧化反應，使有機聚合物被氧化成水蒸汽和二氧化碳等排除腔室，從而達到去除光刻膠的目的，這個過程我們有時候也稱之為灰化或者剝離。氧等離子去膠相比于濕法去膠工藝更為簡單、適應性更好，去膠過程純干法工藝，無液體或者有機溶劑參與。當然我們需要注意的是，這里并不是說氧等離子去膠工藝100%好于濕法去膠，同時也不是所有的光刻膠都適用于氧等離子去膠，以下幾種情形我們需要注意：① 部分穩定性極高的光刻膠如SU-8、PI（聚酰亞胺），往往膠厚也比較大，純氧等離子體去膠速率也比較有限，為了保證快速去膠，往往還會在工藝氣體中增加氟基氣體增加去膠速率，因此不只是氧氣是反應氣體，有時候我們也需要其他氣體參與；② 涂膠后形成類非晶態二氧化硅的HSQ光刻膠。由于其構成并不是單純的碳氫氧，所以是無法使用氧等離子去膠機來實現去膠；③ 當我們的樣品中有其他需要保留的結構層本身就是有機聚合物構成的，在等離子去膠的過程中，這些需要保留的層也可能會在氧等離子下發生損傷；④ 樣品是由容易氧化的材料或者有易氧化的結構層，氧等離子去膠過程，這些材料也會被氧化，如金屬AG、C、CR、Fe以及Al，非金屬的石墨烯等二維材料；市面上常見氧等離子去膠機按照頻率可分為微波等離子去膠機和射頻等離子去膠機兩種，微波等離子去膠機的工作頻率為2.45GHz，射頻等離子去膠機的工作頻率為13.5MHz，更高的頻率決定了等離子體擁有更高的離子濃度、更小的自偏壓，更高的離子濃度決定了去膠速度更快，效率更高；更低的自偏壓決定了其對襯底的刻蝕效應更小，也意味著去膠過程中對襯底無損傷，而射頻等離子去膠機其工作原理與刻蝕機相似，結構上更加簡單。因此，在光電器件的加工中，去膠機的選擇更推薦使用損傷更小的微波等離子去膠機。二、等離子清洗去膠機的工作原理：氧氣是干式等離子體脫膠技術中的首要腐蝕氣體。它在真空等離子體脫膠機反應室內高頻和微波能的作用下，電離產生氧離子、自由氧原子O*、氧分子和電子混合的等離子體，其間氧化能力強的自由氧原子（約10-20%）在高頻電壓作用下與光刻膠膜發生反應：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反應后產生的CO2和H2O然后被抽走。三、等離子去膠機的優勢：1、等離子清洗機的加工過程易于控制、可重復且易于自動化；使用等離子掃膠機可以使得清洗效率獲得更大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內即可完成，因此具有產率高的特點2、等離子掃膠機清洗對象經等離子清洗之后是干燥的，不需要再經干燥處理即可送往下一道工序，可以提高整個工藝流水線的處理效率；3、等離子掃膠機使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；4、避免使用ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環保的綠色清洗方法；5、等離子去膠機采用無線電波范圍的高頻產生的等離子體與激光等直射光線不同，等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀；6、等離子去膠機在完成清洗去污的同時，還可以改良材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能、改良膜的黏著力等，這在許多應用中都是非常重要的。四、等離子去膠的主要影響因素：頻率選擇：頻率越高，氧越易電離形成等離子體。頻率太高，以至電子振幅比其平均自由程還短，則電子與氣體分子碰撞幾率反而減少，使電離率降低。一般常用頻率為 13.56MHz及2.45GHZ 。功率影響：對于一定量的氣體，功率大，等離子體中的的活性粒子密度也大，去膠速度也快；但當功率增大到一定值，反應所能消耗的活性離子達到飽和，功率再大，去膠速度則無明顯增加。由于功率大，基片溫度高，所以應根據工藝需要調節功率。真空度的選擇：適當提高真空度，可使電子運動的平均自由程變大，因而從電場獲得的能量就大，有利電離。另外當氧氣流量一定時，真空度越高，則氧的相對比例就大，產生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高，活性粒子濃度反而會減小。氧氣流量的影響：氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加快；但流量太大，則離子的復合幾率增大，電子運動的平均自由程縮短，電離強度反而下降。若反應室壓力不變，流量增大，則被抽出的氣體量也增加，其中尚沒參加反應的活性粒子抽出量也隨之增加，因此流量增加對去膠速率的影響也就不甚明顯。五、等離子去膠機的應用：1、光刻膠的去除、剝離或灰化2、SU-8的去除/ 犧牲層的去除3、有機高分子聚合物的去除4、等離子去除殘膠/去浮渣/打底膜5、失效分析中的扁平化處理6、表面沾污清除和內腐蝕（深腐蝕）應用7、清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架8、剝離金屬化工藝前去除浮渣9、提高黏附性，消除鍵合問題10、塑料的表面改型：O2處理以改進涂覆性能11、產生親水或疏水表面

2023-10-11 18:02:43請教質譜儀真空腔體的表面處理!: 最近有接觸到質譜的真空腔體，拆機后發現腔內（鋁合金基材)表面像做了鏟花一樣的紋路，見附圖，請教各位大神，這是什么表面處理？有什么益處？謝謝指點！

2024-04-26 11:21:59空氣消毒機除了等離子紫外線臭氧還有其他消毒方式嗎: 空氣消毒機除了等離子紫外線臭氧還有其他方式嗎？

2025-01-07 20:00:12露點儀安裝圖示怎么看，如何正確安裝露點儀？: 露點儀安裝圖示：正確安裝確保測量準確性露點儀是一種用于測量氣體或空氣中露點溫度的精密儀器，廣泛應用于工業、氣象、環保等領域。露點溫度是氣體或空氣中的水蒸氣開始凝結成水珠的溫度，因此準確測量露點對控制空氣濕度、設備運行效率以及工藝質量至關重要。本文將詳細介紹露點儀的安裝過程與圖示，幫助用戶理解如何正確安裝以確保設備的測量。露點儀安裝的基本要求露點儀的安裝位置和環境對其測量精度和長期穩定性有重要影響。在安裝之前，首先需要明確安裝位置的環境條件，例如溫度范圍、濕度波動、氣流速度等。一般來說，露點儀應安裝在避免高溫、高濕、腐蝕性氣體等極端環境的區域。儀器應避免直接暴露于陽光直射或強烈的風速環境中，這樣能有效減少外界環境對測量數據的干擾。露點儀的安裝步驟與圖示選擇合適的安裝位置安裝露點儀時，首先需要選擇一個合適的位置。該位置應避免可能的振動源，并盡量靠近被測氣體流動的主通道，以確保測量值的代表性。露點儀的傳感器應安裝在管道或設備的氣流中心位置，避免靠近管道邊緣或死角，這樣可以確保氣流的穩定性和均勻性。安裝傳感器傳感器是露點儀核心的部分，它直接與氣體接觸并測量露點溫度。在安裝時，傳感器應盡量垂直安裝，以減少因水分聚集而導致的測量誤差。傳感器的安裝深度也需要根據氣流的速度和溫濕度條件來確定。通常建議傳感器深入管道一定距離，但也不宜過深，以避免受到溫度波動的影響。管道連接露點儀與管道的連接方式通常有螺紋連接、法蘭連接和快速接頭等幾種。連接時需要確保密封性，避免泄漏。安裝時應按照儀器的說明書要求，選用合適的接頭和密封材料。管道內氣流應平穩流動，避免出現急轉彎或變徑，這些都會對測量結果產生影響。電源和信號線連接露點儀通常需要接入電源和信號傳輸線路。電源連接時應注意電壓規格，避免電壓不穩定或過載導致設備損壞。信號線連接時，應確保接線正確并避免信號干擾。在復雜的工業環境中，信號線應盡量遠離電力線、強磁場等干擾源。系統校驗與調試安裝完成后，系統需要進行初步校驗。此時可以使用標準的露點儀校準氣體，驗證設備的準確性。如果需要，調整儀器的測量參數和數據輸出格式，確保其與其他測量設備的一致性。露點儀安裝后的注意事項在完成露點儀的安裝后，用戶應定期對儀器進行維護和校準，以確保其長期穩定性和測量精度。環境因素、儀器老化等可能會影響露點儀的性能，定期檢查和調整可以有效避免不必要的誤差和故障。結語露點儀的安裝過程雖然看似簡單，但實際上涉及多個細節問題。合理選擇安裝位置、正確連接傳感器、確保密封性以及正確配置電源和信號線路，都是確保測量結果的關鍵因素。只有在嚴格按照安裝規范進行操作，并進行適當的后期維護，才能保證露點儀在長期使用中的穩定性和可靠性。因此，對于露點儀的安裝和使用，用戶應充分重視細節，以確保其測量數據的科學性與準確性。

2025-01-22 17:45:11如何安裝灰熔點測定儀: 如何安裝灰熔點測定儀灰熔點測定儀作為一種高精度的實驗設備，廣泛應用于材料科學、冶金工程等領域，尤其在分析灰分物質的熔點特性上具有重要的作用。安裝正確的灰熔點測定儀是保證實驗精度和設備正常運行的基礎。本篇文章將詳細介紹如何正確安裝灰熔點測定儀，從準備工作到終調試步驟，確保您能夠順利完成設備的安裝并開展后續的科學實驗。 1. 準備工作在安裝灰熔點測定儀之前，確保工作環境符合設備要求是至關重要的。設備應放置在干燥、通風良好的地方，避免高溫、高濕或電磁干擾等影響。檢查儀器配件是否齊全，并確認電源、電壓與設備要求一致。 2. 安裝儀器根據灰熔點測定儀的使用說明書，按照其提供的步驟進行安裝。將設備放置在穩固的實驗臺上，確保其水平。然后，連接設備的電源線、數據線和溫控系統，確保接口連接牢固，避免電路松動。對于需要額外安裝的配件，如溫度探頭或采樣支架，也應按照說明書的要求進行安裝。 3. 校準設備灰熔點測定儀安裝完畢后，進行設備的初步校準非常關鍵。使用標準化的熔點參考物質進行測試，調整設備的溫度設置，使之達到所需的測量精度。確保溫度探頭靈敏度良好，能夠準確反映樣品的熔化點。 4. 測試與調試進行測試時，選擇合適的灰分樣品，放置在樣品支架中，調整測量參數。啟動灰熔點測定儀并密切監控其操作過程。在測試過程中，儀器會根據設定溫度逐步加熱，直到樣品熔化。注意觀察熔化過程中的數據變化，以確保測試的準確性。 5. 維護與注意事項安裝完成后，定期維護和檢查灰熔點測定儀，確保其長期穩定工作。清潔設備時避免使用腐蝕性清潔劑，尤其是對于溫控系統和傳感器。定期進行校準和功能檢查，以確保測試結果的可靠性。總結正確安裝和調試灰熔點測定儀是獲得準確實驗數據的前提。通過嚴格的安裝步驟和設備維護，能夠有效延長儀器的使用壽命并提高測試的精度。務必根據產品說明書操作，確保所有接口連接牢固，溫度探頭靈敏。通過合規操作，能夠使灰熔點測定儀發揮其大效能，助力科學研究與工業應用。