產品概述
超聲波噴涂技術可以生產高度均勻的納米級薄膜涂層,適用于各種應用。
Sonaer的超聲波噴嘴,具有多種頻率和羽狀成型附件,以適應各種應用。
高效噴涂,材料使用率> 95%,噴涂圖案均勻度+/- 2%
最大噴涂面積:500mm x 500mm
精密注射泵液體加藥/分配。
全數字超聲波發生器:
Sonaer的多DSP閉環控制技術提供高度穩定的操作。
自動霧化功率調整(AAPA)。
實時工作頻率顯示。
基于霧化過程中介質物理特性的VMD模擬。
XYZ伺服機器人運動系統[600mm(X)x 600mm(Y)x 100 / 200mm(Z)],X和Y軸的最大速度為1000mm / s。
自清潔超聲波噴嘴可防止堵塞。
排氣系統接口:可以連接到車間或實驗室的排氣系統。HEPA過濾設施。
通過全彩色觸摸面板集成控制噴嘴,液體輸送和運動系統,界面友好。
內置PC和全彩色HMI,帶觸摸屏和鍵盤。
激光瞄準涂層位置。
技術參數
所有系統組件均與典型溶劑兼容,如:THF,丙酮,DMAC,甲苯,氯仿和聚合物等; 聚氨酯,聚碳酸酯,有機硅,苯乙烯。
尺寸(cm):160 W x 120 D x 175 H,重量:350Kg(注意 – 尺寸和重量可能因定制水平而異)。
電源輸入:220-240VAC 50 / 60Hz,單相,16A。
以太網連接和相機,用于遠程過程監控和記錄保存或故障排除。
可選功能
多種噴嘴配置,用于分層不同的化學品,易于設置,適用于多種噴涂應用。
連續流動注射泵提供連續的液體輸送,可延長操作時間。
超聲波分散:有多種防止聚集和沉積的方法可供選擇。
定制基板平臺,加熱(最高250°C),真空吸盤。
氣密封。
報價:面議
已咨詢775次超聲波涂裝
報價:¥1000000
已咨詢678次薄膜制備
報價:面議
已咨詢767次超聲波涂裝
報價:面議
已咨詢1932次超聲霧化噴霧熱解
報價:面議
已咨詢997次超聲波細胞粉碎機
報價:面議
已咨詢127次超聲霧化噴霧熱解
報價:面議
已咨詢1792次超聲霧化噴霧熱解
報價:面議
已咨詢1250次1200℃管式爐
提供了一種方便的方法來創建納米模式,而無需使用緩慢且昂貴的光掩膜。這對于研究和快速原型設計特別有用。
紫外臭氧清洗機(UVOzone Cleaner, UVO),是一種簡單,經濟,快速高效的材料表面清洗設備,能快速去除大多數無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)表面上的有機污染物。
CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。
CIF 掃描電鏡(SEM)等離子清洗機采用遠程等離子清洗源 設計,清洗快速、高效、低轟擊損傷,主要用于 SEM 或 FIB 等腔 體內碳氫化合物的清洗。
CIF 透射電鏡(TEM)樣品桿清洗機采用遠程離子清洗源 設計,清洗快速高效, 低轟擊損傷, 同時可實現常規等離子清洗。 主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
CIF 推出的旋涂機系列產品轉速穩定、啟動迅速,旋涂均勻,操作簡單,結構緊湊實用,為實驗室提供了理想的解決方案。
CIF烤膠機是一種控溫加熱 設備。主要用于半導體硅片, 載玻片,晶片,基片,ITO 導 電玻璃等工藝的制版的表面涂 覆后薄膜烘干、固化。
CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設備, 改變傳統等離子體清洗設備設計理念。CIF實驗室型等離子清洗機具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積, 使用成本低, 性價比高, 處理快速高