簡介
技術
應用
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已咨詢68次聚合物筆印刷
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已咨詢40次電子束曝光
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已咨詢61次刻蝕設備
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已咨詢65次沉積設備
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已咨詢61次沉積設備
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已咨詢56次沉積設備
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已咨詢55次沉積設備
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已咨詢54次沉積設備
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已咨詢90次陣列式壓力傳感系統
報價：￥1
已咨詢467次自動控制旋轉蒸發儀系列
報價：￥52000
已咨詢1128次超聲波疲勞試驗機
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已咨詢491次工業影像探測器
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已咨詢1744次
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已咨詢2138次
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已咨詢1813次光傳感
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已咨詢926次儀表
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應用 。 電子束曝光系統是實現電子束曝光 技術的硬件平臺，系統的性能決定了曝光工藝關鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數。
我們的SERS基底采用創新技術制造，使您可以進行SERS快速和重復測量，從而對SERS活性的樣品進行定性分析和定量分析。
GGB行業，一系列校準基板允許用戶校準多種GGB 行業的Picoprobe?探頭尖端。測量系統校準的基本原理是提供測量系統可以連接到的精確已知標準。
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