營業執照未審核
分享
收藏
液體顆粒度儀
可檢測光阻產品、SOG 等產品中0.15um 的顆粒
可偵測到粒徑0.15um 的粒子
可自行設定的粒徑范圍0.15~0.5um，通過KE-40B1 的控制器可擴充至10 個通道
出廠設定為4 通道：0.15 / 0.2/ 0.3 / 0.5um
綜合泄漏傳感器與報警輸出
出廠設定為4 通道：0.15 / 0.2/ 0.3 / 0.5um
綜合泄漏傳感器與報警輸出
客戶可在此測量范圍內自行選擇粒徑通道（通過 KE-40B1）
簡介
液體顆粒度儀
可檢測光阻產品、SOG 等產品中0.15um 的顆粒
可偵測到粒徑0.15um 的粒子
客戶可在此測量范圍內自行選擇粒徑通道（通過 KE-40B1）
報價：面議
已咨詢66次太赫茲成像
報價：面議
已咨詢91次陣列式壓力傳感系統
報價：面議
已咨詢68次聚合物筆印刷
報價：面議
已咨詢40次電子束曝光
報價：面議
已咨詢63次刻蝕設備
報價：面議
已咨詢66次沉積設備
報價：面議
已咨詢61次沉積設備
報價：面議
已咨詢56次沉積設備
報價：面議
已咨詢61次粒度分析
報價：￥5500
已咨詢266次顆粒圖像分析儀
報價：￥12140
已咨詢141次粉末顆粒影像測試儀
報價：面議
已咨詢796次Rion 液體光學顆粒度儀
報價：面議
已咨詢540次Rion 液體光學顆粒度儀
報價：面議
已咨詢697次Rion 液體光學顆粒度儀
報價：面議
已咨詢575次Rion 液體光學顆粒度儀
報價：面議
已咨詢397次Rion 液體光學顆粒度儀
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 ， 是光刻工藝的延伸應用 。 電子束曝光系統是實現電子束曝光 技術的硬件平臺，系統的性能決定了曝光工藝關鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數。
我們的SERS基底采用創新技術制造，使您可以進行SERS快速和重復測量，從而對SERS活性的樣品進行定性分析和定量分析。
GGB行業，一系列校準基板允許用戶校準多種GGB 行業的Picoprobe?探頭尖端。測量系統校準的基本原理是提供測量系統可以連接到的精確已知標準。
滬公網安備 31011502008050號