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韓國CTS 12寸科研級CMP拋光機
- 品牌：韓國CTS
- 型號： AP-300
- 產地：亞洲 韓國
- 供應商報價：面議
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倬昊納米科技（上海）中心
更新時間：2024-04-21 22:44:05 -
銷售范圍售全國
入駐年限第4年
營業執照已審核
- 同類產品CMP化學機械拋光機(4件)
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詳細介紹
產品簡介
韓國CTS公司的AP300型CMP拋光機是一款科研級的CMP系統，采用CTS公司工業級的設計理念，為科研工作者及先進制程開發公司提供了一套研究級別的高端設備，可兼容4寸，6寸，8寸,12寸樣品。
產品主要特色
- CMP拋光頭：采用氣囊加載模式，5區壓力獨立控制，可得到良好的工業級拋光效果；
- 自動上下片，自動拋光，干進濕出；
- 拋光墊修整器：擺臂式設計，由13個傳感器分別控制13個區域的下壓力，可保證拋光墊高水平修整；
- 拋光墊修整器：具有在線修整與離線修整兩種模式；
- 工藝數據可實時監測；
- 可存儲多個Recipe。
核心技術參數
拋光頭
兼容4寸，6寸，8寸，12寸
拋光頭擺動范圍
±15mm
拋光頭轉速
0 ~ 200 rpm
拋光頭加壓方式
氣囊柔性加壓背壓功能（5區加壓）
拋光頭壓力范圍
0.14 ~ 14 psi
拋光盤尺寸
20英寸
拋光盤轉速
0 ~ 200 rpm
蠕動泵
2個
拋光液流速
20 ~ 500 cc/min
拋光墊修整器分區
13區
拋光墊修整器在線掃描速度
10sweeps/min
拋光墊修整器下壓力
3-20lbs
拋光墊修整器轉速
0-150rpm
CMP后片內非均勻性WIWNU
1sigma，去邊5mm
< 5%
CMP后片間非均勻性WTWNU
1sigma，去邊5mm
< 3%
儀器尺寸
1000 × 2030 × 2100(W x L x H, mm)
冷卻系統
包含
應用案例
- CMP工藝 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金屬 CMP(W, Cu), 介質膜，STI等
- 工藝開發 可協助客戶進行各類材料/薄膜等的CMP工藝技術開發.
滬公網安備 31011502008050號