ParcanNano原子力顯微鏡（工業型）
百及納米ParcanNano單離子注入系統SII
百及納米ParcanNano探針電子束光刻機P-SPL21
百及納炫米ParcanNano電子束光刻機（多功能超高精度電子束光刻機P21）
百及納米ParcanNano原子力顯微鏡AFM（快捷型)
產品簡介
基于專 利的、源自德國的主動式針尖技術，百及納米科技開發了下一代工業智能型原子力顯微鏡系統，針對工業領域應用提供快速、智能的樣品形貌表征，適用于工業型檢錯、質量評定和量化測量等，尤其適用于檢測大尺寸晶圓或光學晶圓。
系統集成了大尺寸樣品位移臺、全自動光學導航系統和配套自動控制軟件，可對大尺寸樣品進行的光學成像定位，根據光學成像結果自動標定多個準確測量區域，并根據缺陷/待測結構的特點進行模式識別，智能選取原子力顯微鏡測量參數，在樣品多個位置間自動移動，進行可重復的高分辨率測量，生成檢測書面報告，整個過程無需人工參與，實現對大尺寸樣品形貌的智能化、自動化的高速、高質量納米級測量。
產品特點：
· 頂 級自動化功能、測量過程無需激光調節、即插即用式針尖更換方案、快速自動進針，
· 針對高深寬比的溝槽或孔洞結構，采用特制的長針尖提供微納米結構的三維形貌準確測量，
· 可升級至多針尖并行測量模式，大幅提高微納結構表征的范圍和效率，
· 可升級為基于針尖光刻的微納米結構高性能加工系統，大氣環境下快速直寫5nm以下結構。
功能指標
樣品尺寸 | 100 mm x 100 mm (4英寸) 至 300 mm x 300 mm (12英寸) |
成像分辨率 | 優于1 nm (水平方向：0.3 nm, 垂直方向：0.2 nm) |
樣品臺定位精度 | 運動精度優于1nm，重復精度優于10nm，采用閉環回路定位準確控制。 |
單場掃描范圍 (X, Y, Z) | 35μm x 35μm x 10μm （備選: 100μm x 100μm x 30μm） |
測量模式 | 1. 非接觸式（形貌、相位、誤差） 接觸式&力曲線 2. 擴展模式(導電探針(C-AFM)、開爾文探針力顯微鏡 (KPFM)、磁力顯微鏡 (MFM)、掃描針尖光刻 (SPL)等) |
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已咨詢548次ParcanNano百及納米針尖電子束光刻系統
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已咨詢232次SPM/AFM 掃描探針原子力顯
Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復性。與一般環境或干燥N2條件相比，高真空測量具有準確度好、可重復性好及針尖和樣本損傷低等優點。
高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量，晶圓的表面粗糙度對于確定半導體器件的性能是至關重要的，對于先進的元件制造商，芯片制造商和晶圓供應商都要求對晶圓商超平坦表面進行更精確的粗糙度控制。
對于工程師來說，識別介質/平面基底的納米級缺陷的任務是一個非常耗時的過程，Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可以自動缺陷識別，通過與各種光學儀器的聯用可以提高缺陷檢測效率。
Park Systems推出NX-3DM全自動原子力顯微鏡系統，專為垂懸輪廓、高分辨率側壁成像和臨界角的測量而設計。
CSI是一家法國科學設備制造商，擁有專業的AFM設計概念，以及為現有的AFM提供設計選項。它避免了激光對準需要預先定位針尖的系統，針尖/樣品的頂部和側視圖，結合垂直的馬達控制系統，使預先趨近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同時提供原子力顯微鏡成像和納米機械測量。它綜合了這兩種技術的優點，可高速獲得高分辨率的三維圖像，并且在微納米和亞納米尺度上實時觀察納米級力的相互作用，與常規SEM/FIB兼容，
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