Osiris 8寸晶圓顯影機 UNIXX D20
Osiris 桌面型勻膠機 旋涂機 熱板BASIXX ST20+
安捷倫 Agilent 電感耦合等離子體質譜儀 7900ICP-MS
安捷倫Agilent 串聯電感耦合等離子體質譜儀 8900ICP-MS
日本KURASHIKI 主動式減震臺 隔振臺 EST-58-450
產品介紹：
SMEE 200系列光刻機 —— TFT曝光
SSB200系列投影光刻機采用投影光刻機平臺技術，用于AM-OLED和LCD顯示屏TFT電路制造，可應用于2.5代～6代的TFT顯示屏量產線。該系列設備具備高分辨率、高套刻精度等特性，支持6英寸掩模，顯著降低用戶使用成本。
產品特征
● 高精度，分辨率可達1.5μm
● 支持小Mask，可用6英寸掩模實現12英寸屏幕制造
● 具備智能化校準及診斷功能，方便設備參數校調及用戶周期性維護
主要技術參數
型號 | 分辨率 | 套裝精度 | 基板尺寸 |
SSB225/10 | 2μm L/S | 0.6μm | 370mm×470mm 500mm×500mm |
SSB225/220 | 1.5μm L/S | 0.5μm | 370mm×470mm 500mm×500mm |
SSB245/10 | 2μm L/S | 0.6μm | 730mm×920mm |
SSB245/20 | 1.5μm L/S | 0.5μm | 730mm×920mm |
SSB260/10T | 2μm L/S | 0.6μm | 1300mm×1500mm 1500mm×1850mm |
SSB260/20T | 1.5μm L/S | 0.5μm | 1300mm×1500mm 1500mm×1850mm |
報價：面議
已咨詢538次實驗室常用設備
報價：面議
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報價：面議
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步進式光刻 更高的精度 激光主動對焦 6 英寸加工幅面 特征尺寸0.4 μm
本設備是我公司專門針對各大、專院校及科研單位研發使用的一種精密光刻機，主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產。
采用AOD激光操控技術，光斑定位精度優于1nm，高精度套刻對準，結構邊緣超平滑，可輕松構建1微米以下線寬結構。 先進的AOD激光操控技術，使得DaLI具有超高的激光定位精度（優于1nm），超長的有效壽命，以及極高的穩定性。DaLI主要適用于廣泛應用于MEMS、材料科學、微流控、微光學器件及其它微納加工領域。
主要優勢 ? 小巧桌上型系統 ? 掩膜板制作及激光直寫 ? 375nm 或405nm 激光源 ? 兼容所有光刻膠 ? 高深寬比: 1 x 20
創新采用三柔性支點實現高精度自動調平；真空接觸自動曝光；樣片升降、調平、接觸、曝光、復位實現自動化控制；采用積木錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明；可連續設定分離間隙；采用雙目雙視場顯微鏡實現高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。
營業執照已審核
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滬公網安備 31011502008050號