Park NX20 300mm
可用于 300mm晶片圓測量和分析的高端自動化納米測量工具
Park NX20 300mm是業界創新型大樣品原子力顯微鏡,支持300mm×300mm全程機動化。新升級的Park NX20系統專為失效分析和質量控制實驗室設計,可有效地檢測整個300mm晶圓,且無需任何繁瑣的樣品位移。盡管擴大了支持300mm樣品的機動XY工作臺,但Park的創新性振動隔離技術仍然能夠將系統噪聲保持在低于0.5 (?) RMS,通常是0.3 ? RMS的水平。
經檢驗的原子力顯微鏡性能和單擊-原子力顯微鏡自動化取消了樣本調整的需求,并使Park NX20的掃描過程盡可能高效和便于使用。通過我們的“批處理模式(Program Mode)”界面,用戶可以在整個300mmx300mm區域輕松實現可靠與可重復的順序多站點測量。NX20 300 mm從而成為需要掃描大樣品的FA、QA和QC工程師的理想選擇。
專為大樣品晶圓檢測而建
NX20 300 mm進行了全新設計,可達到大樣品的高精度測量。整個300mm晶圓區域可進行低噪聲原子力顯微鏡測量分析。這開啟了一個全新的自動化測量范圍,讓工程師可以更快捷、更簡便、更精 準地開展工作。
Park NX20 300mm真空吸盤支持各種尺寸、形狀和類型的晶圓,讓用戶幾乎可準確掃描任何樣品。
機動化的300mm XY軸工作臺允許用戶在300mm的全部區域內移動原子力顯微鏡的測量位置。
NX20 支持300mm樣品臺,性能已被證實
因其便捷的易用性和自動化以及不受影響的精度,NX20已是FA、QA和QC工程師的理想選擇。憑借其支持300mm電動XY軸工作臺的擴大平臺,NX20 300mm更上一層樓,允許用戶輕松地以較高的精度檢測更大的樣品。
Park SmartScan?讓精 準測量更為簡單
Park NX20配備了我們的SmartScan操作系統,是市場上易使用的原子力顯微鏡。通過直觀且強大的界面,即便是未經培訓的用戶無需協助也可快速掃描大樣品。這使高級工程師能夠集中精力解決更大的問題和開發更好的解決方案。
a在完整300mm晶圓上掃描多個位點
SmartScan?允許用戶從位點到位點和樣品到樣品的層面上,借助基于網格和晶圓的模式,進行自動順序測量與表面形態、高度和表面粗糙度的比較。這可以大大提高掃描大樣品時的用戶便利性和生產效率。
b強大的工作創建功能
格式創建流程簡單,允許工程師設置每個批次的位置、名稱、數量和類型所定義的預設。
針對廣泛應用性進行優化
NX20 300mm為眾多應用提供自動格式的原子力顯微鏡測量,為納米級的樣品提供精 準測量和分析。具有粗糙度、高度和深度測量,缺陷檢查,電氣和磁故障分析,熱性能表征和納米力學性能成像等能力,該原子力顯微鏡是檢測大樣品的FA、QA和QC工程師執行各種任務的理想選擇。
Park NX20 300mm Specifications
Scanner
Z Scanner
Guided high-force flexure scanner
Scan range : 15 μm (optional 30 μm)
Height noise level : 30 pm
0.5 kHz bandwidth, rms (typical)
XY Scanner
Single module flexure XY-scanner with dual servo closed-loop control
Scan range : 100 μm × 100 μm
Stage
Z stage range : 25 mm (Motorized)
Focus travel range : 8 mm (Motorized)
XY stage travel range : 300 mm x 300 mm (Motorized)
Sample Mount
Sample size : 100, 150, 200, 300 mm wafers, small sample Magnetic sample holder, thickness up to 20 mm
Sample weight : < 500 g
Optics
10x (0.23 NA) ultra-long working distance lens (1 μm resolution)
Direct on-axis vision of sample surface and cantilever
Field-of-view : 840 × 630 μm (with 10× objective lens)
CCD : 5 M pixel
Software
SmartScan?
Dedicated system control and data acquisition software
Auto mode, Manual mode
Program mode for recipe-automated, sequential multiple-site measurement AFM operation
AFM data analysis software
Integrated functions
4 channels of flexible digital lock-in amplifier
Digital Q control
ADC : 18 channels 4 high-speed ADC channels 24-bit ADCs for X, Y and Z scanner position sensor
DAC : 17 channels 2 high-speed DAC channels 20-bit DACs for X, Y and Z scanner positioning
Maximum data size : 4096 x 4096 pixels
Standard Imaging
True Non-Contact AFM
PinPoint? AFM
Basic Contact AFM
Lateral Force Microscopy (LFM)
Phase Imaging
Tapping AFM
Force Measurement
Force Distance (F/d) Spectroscopy
Force Volume Imaging
Dielectric/Piezoelectric Properties
Electric Force Microscopy (EFM)
Dynamic Contact EFM (EFM-DC)
Piezoresponse Force Microscopy (PFM)
PFM with High Voltage*
Mechanical Properties
Force Modulation Microscopy (FMM)
Nanoindentation*
Nanolithography*
Nanolithography with High Voltage*
Nanomanipulation*
Magnetic Force Microscopy (MFM)
Tunable Magnetic Field MFM
Conductive AFM (C-AFM)*
IV Spectroscopy*
Kelvin Probe Force Microscopy (KPFM)
Scanning Capacitance Microscopy (SCM)*
Scanning Spreading-Resistance Microscopy (SSRM)*
Scanning Tunneling Microscopy (STM)*
Photo Current Mapping (PCM)*
Chemical Force Microscopy with Functionalized Tip
Electrochemical Microscopy (EC-AFM)
Customize your AFM to handle any project
Innovative control design allows Park NX20 300mm to quickly reach temperature equilibrium Park NX20 300mm also features active vibration isolation.
Innovative control design allows Park NX20 300mm to quickly reach temperature equilibrium Park NX20 300mm also features active vibration isolation.
Sample Plates
? Dedicated small sample holder for electrical measurements
? Vacuum grooves to hold wafers
Encoders for Motorized Stage
? The encoded XY stage travels in 1 μm resolution with 2 μm repeatability
? The encoded Z stage travels in 0.1 μm resolution with 1 μm repeatability
Temperature Control
· Temperature Controlled Stage 1: -25 °C to +170 °C
· Temperature Controlled Stage 2: Ambient to +250 °C
· Temperature Controlled Stage 3: Ambient to +600 °C
報價:面議
已咨詢598次大樣品原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢350次大樣品原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢363次Park原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢8556次原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢596次大樣品原子力顯微鏡
報價:面議
已咨詢37次濾紙
報價:面議
已咨詢35次半導體與平板顯示器檢測顯微鏡
報價:面議
已咨詢143次Park NX-Hivac通過為失效分析工程師提供高真空環境來提高測量敏感度以及原子力顯微鏡測量的可重復性。與一般環境或干燥N2條件相比,高真空測量具有準確度好、可重復性好及針尖和樣本損傷低等優點。
高精度探針針尖變量的亞埃米級表面粗糙度測量,晶圓的表面粗糙度對于確定半導體器件的性能是至關重要的,對于先進的元件制造商,芯片制造商和晶圓供應商都要求對晶圓商超平坦表面進行更精確的粗糙度控制。
對于工程師來說,識別介質/平面基底的納米級缺陷的任務是一個非常耗時的過程,Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可以自動缺陷識別,通過與各種光學儀器的聯用可以提高缺陷檢測效率。
Park Systems推出NX-3DM全自動原子力顯微鏡系統,專為垂懸輪廓、高分辨率側壁成像和臨界角的測量而設計。
CSI是一家法國科學設備制造商,擁有專業的AFM設計概念,以及為現有的AFM提供設計選項。它避免了激光對準需要預先定位針尖的系統,針尖/樣品的頂部和側視圖,結合垂直的馬達控制系統,使預先趨近更加容易。
EM-AFM可在SEM中同時提供原子力顯微鏡成像和納米機械測量。它綜合了這兩種技術的優點,可高速獲得高分辨率的三維圖像,并且在微納米和亞納米尺度上實時觀察納米級力的相互作用,與常規SEM/FIB兼容,