產品簡介

美國JELIGHT紫外臭氧清洗機

JELIGHT 紫外清洗機是一種快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子對有機物質所起的光敏氧化作用以達到清洗粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物）的目的。是清除硅、砷化鎵、石英、藍寶石、玻璃、云母、陶瓷、金屬等表面有機污染物的zui安全、zui有效的方法。 除清洗外，JELIGHT紫外清洗機還可用于表面改質，如通過紫外處理后，涂層與表面的粘附力可大大增加，并可用于生物芯片制作過程中PDMS鍵合等。

產品型號目錄:

紫外清洗優點

被清洗的表面除了光子，不與任何物體發生接觸，有機物經過紫外光照射發生光敏氧化反應后，生成可揮發性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風系統抽走。

表面潔凈度高，且不會像溶液清洗時發生二次污染。

光清洗的表面不會受到損傷，由于光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會受到損傷或發生晶體缺陷的現象。

光清洗對物體表面微細部位（如孔穴、微細溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為 細微的部位，發生光敏氧化反應，充分表現出光清洗的徹底性。

相關應用

在進行薄膜沉積之前先進行基片清洗。清除浮渣和穩定化處理光刻膠。超高真空度密封。

清洗硅芯片，透鏡，反光鏡，太陽能面板，冷軋鋼，慣性引導零件和 GaAs芯片

清潔焊劑，混合電路以及平板LCD顯示器

蝕刻特氟隆，氟橡膠以及其它有機材料

增強GaAs 和Si氧化物鈍化表面

增強玻璃的除氣作用

基片藍膜去除

增強塑料表面的鍍膜的粘附性

基片終測后墨跡清楚

去除光刻膠

平板顯示器/液晶顯示器

去除光刻機臺上的光刻膠殘留物

在電路板封裝和打片之前清洗

光纖

增強表面親水特性

為生物科學應用做清洗和消毒

光學透鏡

其它應用

臭氧發生器
Ozone Generator

臭氧（氧化電位2.7eV）的反應活性相當強，是一種強氧化劑。在許多新領域的研發過程中，它逐漸成為不可缺少的元素之一。其中包含化學實驗室，大學以及電子，醫藥，化學，生物和醫學研究機構。在工業應用的范圍也增加許多。例如半導體產業，環境研究。飲用水及污水處理，塑料和包裝產業以及食品加工技術。臭氧也被常用為殺菌與消毒液體，氣體和固體有機物質。無論是單一的實驗室或實驗工廠，甚至工業生產的規模，由于新的技術，使生產臭氧不再成為經濟負擔。本公司的產品專門使用低壓汞氣燈所放射出的短波紫外線，來產生純凈的臭氧。訂購時，請指明120VAC/60Hz或220VAC/50Hz的電源供應器。

型號：2000 ■ 可產生臭氧濃度超過6000ppm. ■ 進出的埠為直徑6米。 ■ 可調式流量計安裝于機臺的主面，zui高流量定為5L/min。使用者可依照臭氧濃度的需求而調整此控制。 ■ 機器內提供冷卻系統，增強紫外線燈的壽命。 ■ 尺寸（長*寬*高）：42公分*25公分*16.5公分 ■ 保用壽命：1年（燈管的壽命不包含在內）
型號：1000 ■ 原為OEM產品，適合安裝在多種設備或一般封箱內。 ■ 進出的埠為直徑6米。 ■ 臭氧產生的濃度相同于型號：2000 ■ 外殼以不銹鋼電鍍形成。 ■ 需外加適當的冷卻系統，增強紫外燈的壽命。 ■ 尺寸（長*寬）：30公分*5公分 ■ 保用壽命：1年（燈管的壽命不包含在內）
型號：600 ■ 機型的尾端安裝1組石英材質燈套。 ■ 使用者可因臭氧濃度的需求來調整燈套蓋過紫外線燈的長短。 ■ 臭氧濃度調整：ppb~3100ppm。 ■ 進出的埠為直徑6米。 ■ 外殼以不銹鋼電鍍形成。 ■ 尺寸（長*寬）：23公分*2.5公分。 ■ 保用壽命：1年（燈管的壽命不包含在內）