三維表面微觀測量及粗糙度評定廣泛應用于精密加工、半導體加工、材料分析等領域。
優勢
√ 亞納米級縱向分辨率,適合光滑表面測量分析
√ 簡單、精確、快速、可重復
√ 豐富的測量模式支持不同2D/3D測量需求
功能
√ 表面三維粗糙度非接觸測量
√ 表面微觀三維結構測量
√ 膜厚測量與分析
√ 顯微反射光譜測量(選)
適用對象
精密光學元件,微納加工器件,金屬機加工零件,晶圓等
測量原理
√ 白光干涉顯微測量原理:采用白光光源,將非相干光干涉和高分辨率顯微成像技術相結形成微觀三維輪廓,采用不同測量倍率物鏡,縱向測量分辨率可達到亞納米量級
√ 顯微光譜測量:選配光譜模塊可以實現表面微區光譜測量和膜厚測量功能
測量分析軟件
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電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝 , 是光刻工藝的延伸應用 。 電子束曝光系統是實現電子束曝光 技術的硬件平臺,系統的性能決定了曝光工藝關鍵尺寸、拼接和套刻精度等參數。
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GGB行業,一系列校準基板允許用戶校準多種GGB 行業的Picoprobe?探頭尖端。測量系統校準的基本原理是提供測量系統可以連接到的精確已知標準。